Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9227626 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius (CTL) ist eine spezielle Photoresist-Ausrüstung, die zuverlässige, hochleistungsfähige Photoresist-Musterlösungen mit der Flexibilität und Skalierbarkeit bietet, um den Anforderungen neuer Technologien gerecht zu werden. Das CTL-System bietet eine umfassende Palette von Lithographie-, Ätz- und Oberflächenbehandlungsmöglichkeiten, die einen schnellen Durchsatz von Photoresist-Umkehr- und Mikrofabrikationsprozessen auf einer Vielzahl von Substraten ermöglichen. Die CTL-Einheit unterstützt eine Vielzahl konventioneller und fortschrittlicher Photoresist-Materialien wie positive, negative und fortschrittliche silylierte und Nanopartikel-Resiststoffe, so dass Kunden die optimale Resistmaschine für ihre spezifischen Anwendungsanforderungen auswählen können. CTL ist auch in der Lage, mehrere Prozesse automatisch zu steuern, einschließlich Belichtung, Geschwindigkeit, Gasströme und Parameter für jede bestimmte Art von Resist. So können Anwender eine Online-Prototypenfertigung oder eine schnelle mehrschichtige Prozessentwicklung ohne manuelle Eingriffe erreichen. Zu den Hauptkomponenten des CTL-Werkzeugs gehören eine integrierte Workstation mit 8-Zoll-FPD-Substrathalter, eine 6-Zoll-Belichtungsplattform mit einer Vielzahl von Beleuchtungsquellen, ein Ätzmodul mit bis zu neun gleichzeitigen Ätz- oder Abscheidungsquellen und ein Durchlass, der den Substrate erleichtert. Die Belichtungsplattform verfügt über ein 45 x 25 Quadratzoll-Bildfeld, mit dem Geräte mit Linienbreiten bis zu 0,2 µm gemustert werden können. Für Vor- und Nachmusterzwecke umfasst das CTL-Modell auch eine fortschrittliche Plattform mit einer Soft-Lithographie-Fähigkeit, Vakuum-Oberflächenbehandlung und Plasmaätzfunktionen. Die CTL-Ausrüstung wird mit automatisierten materiellen behandelnden Systemen und in einer Prozession gehenden Hochleistungsfähigkeiten ausgestattet. Die Automatisierung des CTL-Systems soll die Wartezeit und die damit verbundenen Prozessschritte deutlich reduzieren, sodass Anwender schnell Prototypen erstellen und eine Vielzahl von Materialien schnell und effizient verarbeiten können. Mit der CTL-Einheit können Anwender problemlos genaue Photomasken-Design- und Produktionsprozesse sowie exakte Abscheideendpunkte, eine konsistente Resistprofilkontrolle und eine verbesserte Überlagerungsgenauigkeit durchführen. Die CTL-Maschine unterstützt auch die globale dielektrische Ätzselektivität und präzise Ätzprofile, so dass Anwender Gerätemuster auf mehreren Substraten und Technologien mit minimaler Zeit und Kosten erreichen können. Das CTL-Tool ist äußerst zuverlässig und erfordert eine minimale Wartung, sodass Anwender während der gesamten Lebensdauer der Anlage konsistente, vorhersehbare Prozessergebnisse erzielen können. Das Modell ist kompakt und kostengünstig und soll mit anderen Bearbeitungswerkzeugen für einen vollautomatischen Produktionsprozess integriert werden. Mit seinen leistungsstarken Fähigkeiten und der Automatisierung ist TEL CTL die ideale Lösung für industrielle und forschende Photolackverarbeitungsanforderungen.