Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9243664 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung zur Förderung der Fab-Effizienz des Halbleiterproduktionsprozesses. Es bietet einen einzigartig leistungsstarken Satz von Werkzeugen, die bei der Lithographie jedes Schritts des Photoresist-Zyklus unterstützen und die Anpassung jedes Prozesses ermöglichen. Dieses System rationalisiert den Herstellungsprozess und schafft eine reduzierte Zykluszeit, ohne die Qualität zu beeinträchtigen, um zu Ergebnissen mit höherer Ausbeute zu führen. TEL Clean Track Lithius ermöglicht eine präzise Steuerung des Photoresist-Zyklus und ermöglicht nahtlose Lithographie-Prozesse in jeder Phase. Die FTM-Funktion (Automatic Film Thickness Measurement) stellt sicher, dass der Fotolackfilm während des gesamten Photolackzyklus die gewünschte Dicke aufweist, was ein superpräzises Resistmusterergebnis ermöglicht. Diese Maschine bietet auch eine präventive Cleaning-in-Situ (CIS) -Funktion, die sicherstellt, dass der Fotolack vor der Bildgebung immer in unberührtem Zustand ist. Das CIS-Feature schafft ein wertvolles Gleichgewicht zwischen optimaler Photolackhaftung und Vermeidung von Schichthaftverlusten. Darüber hinaus enthält das Werkzeug auch ein erstklassiges Edge-Tilt Compensation (ETC) -Merkmal, das die beim Litho-Ätzen auftretende Resistmusterverschiebung schnell und genau kompensiert. Die Automatisierung von TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Asset erhöht auch den Durchsatz von Fab, indem manuelle Eingriffe entfallen. Das integrierte Process Diagnostics Model (PD) ist in der Lage, Prozessvariationen zu erkennen und zu eliminieren und eine optimale Verarbeitung der Resistkassette zu gewährleisten, was schnellere, präzisere Fertigungsergebnisse ermöglicht. Insgesamt ist Clean Track Lithius eine effektive und zuverlässige Photolackausrüstung für die Halbleiterherstellung. Es liefert erstklassige Lithographieergebnisse, indem es eine präzise Kontrolle der Foliendicke, eine präventive Reinigung, eine Kantenkippkompensation und eine fortschrittliche Prozessdiagnose bietet und gleichzeitig die Zykluszeit reduziert, indem manuelle Eingriffe entfallen. Dieses System sorgt für konsistente und zuverlässige Ergebnisse während des gesamten Photolackzyklus.