Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9267420 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung, die sich durch ihre Fähigkeit auszeichnet, die Größe und Komplexität des lithographischen Prozesses zu reduzieren und die Sauberkeit und Produktivität des Reinigungsprozesses zu verbessern. TEL Clean Track Lithius System ist eine modulare und modulare technische Lösung für Maskier-/Ätz- und Reinigungstechnologien. Es eignet sich sowohl für die Massenproduktion als auch für die Verarbeitung in begrenzter Menge. Das Gerät verfügt über eine ultrakurzwellige Lichtquelle, die eine hochauflösende Strukturierung von Photomasken und eine verbesserte Reinigungsleistung ermöglicht. Dies ermöglicht auch die Entwicklung höherauflösender Masken/Platzierungsmuster und die Reduzierung der minimalen Tonhöhe für Muster. Das Musterlayout wird durch die Verwendung von niederdimensionalen Mustern (2 bis 4 Farben) optimiert. Die Photolackschicht wird in einem einzigen Schritt aufgebracht, was den Durchsatz erhöht und die Komplexität gegenüber herkömmlichen Resistverarbeitungstechniken reduziert. TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius integriert auch eine fortschrittliche Reinigungsmaschine in den Musterprozess. Das Reinigungswerkzeug kombiniert sowohl naßchemische als auch trockene Partikelreinigungsprozesse. Das Naßätzverfahren verwendet eine chemische Hochdrucklösung (1,7 bis 3,5 mPa), um das Photolackmaterial vom Substrat zu entfernen. Bei der Reinigung von trockenen Partikeln werden Partikel verschiedener Größen verwendet, um den verbleibenden Photoresist vom Substrat zu entfernen. Die Kombination der beiden Reinigungsprozesse ermöglicht eine höhere Durchsatzleistung und eine sauberere Photoresist-Strukturierung. Clean Track Lithius bietet zudem ein In-Line-Monitoring für Inspektionen und Prozessüberwachung. Das Modell misst die Lichtintensität des Resistmaterials und verwendet die aufgebrachte Lichtintensität, um Warnsignale zu erzeugen, wenn die Lichtintensität außerhalb des akzeptablen Bereichs liegt. Die Geräte können auch verwendet werden, um die Sauberkeit des bearbeiteten Substrats zu messen, so dass Ingenieure alle Reinigungsfehler vor dem Photoresist-Auftragsprozess identifizieren können. Darüber hinaus verfügt TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius über eine intelligente Gehäusehandhabung (ICH) für eine schnelle und präzise Musterplatzierung. Das ICH verwendet einen mehrachsigen Positionierungsanalysator, um die genaue Position des Substrats während der Strukturierung zu identifizieren. Die resultierende Musterplatzierung ist gleichmäßig und präzise, was höhere Ausbeute und höhere Prozessstabilität ermöglicht. Abschließend ist TEL Clean Track Lithius Photoresist-System eine fortschrittliche und fortschrittliche technische Lösung für Photomasken und Ätzmuster. Das Gerät soll die Größe und Komplexität des lithographischen Prozesses reduzieren und gleichzeitig die Sauberkeit und Produktivität des Reinigungsprozesses verbessern. Insgesamt ergeben sich verbesserte Ausbeuten, erhöhter Durchsatz, erhöhte Gleichmäßigkeit und höhere Prozessstabilität.