Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9267952 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9267952
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
(2) Coater / (3) Developer system, 12"
Mainframe with controller
(4) FOUPS and Carrier station
SHINWA T&H-ME-1-1AZAZAZ-01 Temperature and humidity controller
SMC INR-244-260A-2 Temperature Controller Unit (TCU)
Coater unit (2-1, 2-2):
(10) Dispense nozzles
With temperature controlled line: HPT 106-2 Pump
PR Suck-back valve type: (20) AMC Suck-back valve
Degasing system for solvent (PCS Pumps)
Programmable side rinse:
PR Nozzle: (10) Bottles
Solvent 1 supply: CCSS
Solvent 2 supply: Local canister tank 1 and 2
Photo resist temperature control system
Direct drain type
Developer unit:
NLD Nozzle
Stream nozzle for DI rinse
Degasing system for developer (PCS Pumps)
Developer supply: CCSS
DIW Supply: CCSS
Developer temperature control system
Direct drain type
Chemical cabinets:
COAT Cabinet
2-DEV Cabinets
AC Power box: 200 / 220 V
Full-load current: 152 Amps
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist eine leistungsstarke, automatisierte Photolackausrüstung, die für eine Vielzahl von Anwendungsanforderungen geeignet ist. Das System verfügt über leistungsstarke, effiziente Photolack-Prozesssteuerung und flexible Be-/Entladeoptionen für Substrate. Es liefert wirtschaftliche und herausragende Ergebnisse in der Serienfertigung. Um höchste Leistung zu gewährleisten, bietet das Gerät automatisierte Reinigungs- und Trocknungsprozesse, um Top-Ergebnisse und Effizienz zu gewährleisten. Die Maschine verfügt über einen robotergesteuerten Kassettenlader zum präzisen Be- und Entladen von bis zu 20 Wafern auf einmal. Das Werkzeug verwendet auch fortschrittliche In-Line-Beschichtungs- und Backtechnologie, um die Anzahl der erforderlichen manuellen Prozessschritte zu verringern. Darüber hinaus verfügt es über anspruchsvolle Fehlererkennung und automatische Tuning-Funktionen. Das Asset nutzt bis zu sechs Spin Coater, die eine Reihe von Photoresist-Verarbeitung bieten. Diese Optionen umfassen einschichtige, doppelseitige, 20 ± 1 um Spaltfüllung, Restfilmdickenmessung und Trockenbeschichtungssteuerung. Der Spin Coater enthält auch einen Bildkopf nach Industriestandard, der ein minimales Totvolumen und eine minimale Bildung von Oberflächenfehlern gewährleistet. Darüber hinaus ist das TEL Clean Track Lithius-Modell eine ausgezeichnete Wahl für Anwendungen, die eine erweiterte Musterauflösung erfordern, mit hervorragender Funktionssteuerungsfähigkeit und einheitlicher Substratlieferung. Seine hohe Stabilität und Wiederholbarkeit ermöglichen eine effiziente Serienfertigung und weitere Kosteneinsparungen. Darüber hinaus bietet die Anlage eine integrierte Softwarelösung zur Steuerung des Produktionsprozesses über eine grafische Benutzeroberfläche. Die integrierte Software reduziert den manuellen Eingriff auf ein Minimum und beinhaltet eine interne Datenbank, die den Prozessablauf unterstützt. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius eine ideale Photoresist-Systemlösung für verschiedene Anwendungsanforderungen. Es bietet überlegene Prozesszeitkontrolle, hervorragende Funktionen zur Steuerung und überlegene Fehlererkennungsgenauigkeit. Darüber hinaus optimiert die integrierte Softwarelösung den Produktionsprozess und sorgt für hohe Ausbeute und Wiederholbarkeit.
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