Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9267953 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius
Verkauft
ID: 9267953
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
(2) Coater / (3) Developer system, 12" Mainframe with controller (4) FOUPS and Carrier station SHINWA T&H-ME-1-1AZAZAZ-01 Temperature and humidity controller SMC INR-244-260A-2 Temperature Controller Unit (TCU) Coater unit (2-1, 2-2): (10) Dispense nozzles With temperature controlled line: HPT 106-2 Pump PR Suck-back valve type: (20) AMC Suck-back valve Degasing system for solvent (PCS Pumps) Programmable side rinse: PR Nozzle: (10) Bottles Solvent 1 supply: CCSS Solvent 2 supply: Local canister tank 1 and 2 Photo resist temperature control system Direct drain type Developer unit: NLD Nozzle Stream nozzle for DI rinse Degasing system for developer (PCS Pumps) Developer supply: CCSS DIW Supply: CCSS Developer temperature control system Direct drain type Chemical cabinets: COAT Cabinet 2-DEV Cabinets AC Power box: 200 / 220 V Full-load current: 152 Amps 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist eine hochmoderne Halbleiter-Waferbearbeitungsanlage zur Herstellung von Photoresists. Dieses System kombiniert ein fortschrittliches Reinigungsverfahren mit einer hochgenauen Photoresist-Abscheidungseinheit, um auf Anfrage Produkte von höchster Qualität zu produzieren. TEL Clean Track Lithius verfügt über ein Paar Roboterarme, um die Wafer zwischen Reinigungs- und Abscheidestufen zu bewegen. Der integrierte Reinigungsprozess der Maschine verwendet reine Wasserzusätze und Sauerstoff, um völlig saubere Wafer bereitzustellen, die frei von organischen und anorganischen Verunreinigungen sind. Das Abscheidungswerkzeug besteht aus einem Paar ultrahochdichter, plasmaverstärkter Aufdampfpistolen, die auf der Waferoberfläche thermisch verdampfen und Verbindungen kondensieren, was eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit des Photoresistmusters ergibt. Die Anlage ist mit zwei unabhängigen Förderbahnen auf der Ober- und Unterseite der Prozesskammer konfiguriert, um die Wafer zu verwalten, und kann bis zu 300 200mm Wafer pro Stunde verarbeiten. Die proprietäre TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Software-Suite ermöglicht die vollständige Kontrolle der Modellparameter während der Waferbearbeitung, einschließlich der Möglichkeit, Rezepte zu speichern und sie im Handumdrehen zu ändern. Durch seine Hardware und Software ist das Gerät in der Lage, über die gesamte Waferoberfläche eine Ablagerungsgleichmäßigkeit von +/- 0,9 µm zu erreichen. Das System ist mit Auto-Diagnosefunktionen ausgestattet, um Prozessanomalien in Echtzeit zu erkennen und zu korrigieren. Neben seiner hervorragenden Prozesskontrolle verfügt Clean Track Lithius auch über eine Vielzahl von Sicherheitsfunktionen, um das Gerät vor Verschmutzungen und Betriebsfehlern zu schützen. Die Maschine ist mit mehreren metallischen Antikontaminationsleitblechen und Luftvorhängen ausgestattet, um ein Austritt von Partikeln in die Prozesskammer zu minimieren. Es verwendet auch eine multiplexierte Einlass-Pumpen-Architektur, um sicherzustellen, dass die im Prozess verwendeten Gase frei von Kohlenwasserstoffen sind, die für den Wafer gefährlich sein können. Schließlich ist das Werkzeug mit werkzeugspezifischen Sicherheitskreisprüfungen ausgestattet, um sicherzustellen, dass das Gerät ordnungsgemäß betrieben wird. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist ein ideales Werkzeug für die präzise hochvolumige Photoresist-Abscheidung. Es ist für den 24/7-Betrieb ausgelegt und wird derzeit in einer Vielzahl von Labors und Produktionsstätten auf der ganzen Welt installiert. Das Modell ist hocheffizient und für jahrelangen zuverlässigen Betrieb konzipiert, so dass Benutzer Photoresists schnell verarbeiten können, Wafererträge und Rentabilität erhöhen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor