Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9275996 zu verkaufen

ID: 9275996
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
Resist coater / Developer system, 12" Multi block Track 1: (2) Coater cups (2) BCT cups (4) Developer cups Track 2: Resist reduction: RRC Dev nozzle: LD Nozzle Resist pump: RDS 4ml Oven: Dehyde bake: (4) CLHP COT: (9) CPHP PEB: (6) CPHP Post bake: (5) CLHP (2) ADH Track chemicals: Resist supply: Gallon bottle Thinner: OK73, LA95 Does not include HDD 2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung, die in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von Feinätzmustern auf Wafern verwendet wird. Es ist eine der fortschrittlichsten Photoresist-Technologien auf dem Markt. Dieses System nutzt einen komplexen Mechanismus zur Lichtsteuerung und Strukturierung, um ein genaues Ätzen auf der Oberfläche des Wafers zu ermöglichen. Im ersten Schritt wird eine dünne Schicht aus Positiv-Ton-Photolack auf die Waferoberfläche aufgebracht. Der Photolack wird dann einer hochintensiven UV-Lichtquelle ausgesetzt, die die Belichtung des Photolacks in Abhängigkeit vom gewünschten Muster selektiv moduliert. Dieses Muster wird dann auf die Oberfläche des Wafers übertragen und ist bereit für den Ätzvorgang. TEL Clean Track Lithius verfügt über anspruchsvolle Lichtsteuerungsfunktionen wie eine Laser-LDI (Laser Direct Imaging) -Optik, eine Acht-Kanal-Schrittbewegungssteuerung und eine schnell rückgekoppelte Maschine zur gleichmäßigen Belichtung des Fotolacks. Benutzer können bei Bedarf auch zu einer Kontaktbelichtungsoption wechseln. Die fortschrittliche Photoresist-Technologie von TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius macht das Tool auch für mehrere Photoresist-Entfernungsprozesse geeignet. Auf diese Weise können Benutzer mehrere Feinätzdetails gleichzeitig auf die Wafer aufdrucken. Eine breite Palette von Photoresist-Sorten ist auch mit dem Asset verfügbar, so dass ein maßgeschneidertes Ätzmuster erreicht werden kann. Clean Track Lithius Photolackmodell ist eine ausgezeichnete Wahl für Halbleiterhersteller, die nach effizienten, präzisen und gut regulierten Ätzprozessen suchen. Dank seiner ausgeklügelten Eigenschaften, seiner benutzerfreundlichen Bedienung und Zuverlässigkeit ist es die erste Fotolackausrüstung für viele Branchen.
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