Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9294230 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius
ID: 9294230
Wafergröße: 12"
Resist Coater / Developer system, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung für die fortschrittliche Lithographie-Produktion. Es bietet robuste Leistung und Zuverlässigkeit in Substraten von 200nm bis 40µm. Dieses System verfügt über eine fortschrittliche Beschichtungstechnologie, die eine gleichmäßige Beschichtung der Widerstände über den Wafer gewährleistet. Es bietet auch hervorragende handhabte Schichtbildung und feines Resist-Detail ideal für kritische Merkmale. Das automatisierte Maschinendesign des Geräts ermöglicht eine präzise Steuerung der Resist-Dispense-Rate und ermöglicht einen schnellen Prozessauftrieb und einen stabilen Betrieb über lange Laufzeiten. Eine einzige Belichtungsquelle bietet vielseitige Formen und vier Quellenleistungen, von hoher Energie bis zu niedrigen, sorgen für höhere Prozessausbeuten und eine verbesserte Geräteleistung. TEL Clean Track Lithius ist mit einer Vielzahl von Tools und Optionen ausgestattet, um eine effiziente Prozessintegration zu gewährleisten. Das eingebettete Fehlerinspektionswerkzeug (EDI) erkennt Oberflächen- und eingebettete Defekte, die dann im Resist markiert werden. Diese hohe Geschwindigkeit, Echtzeit-Inspektion ist entworfen, um fehlerfreie Substrate zu garantieren. Es verfügt außerdem über führende Diagnosefunktionen, die ohne Störungen detaillierte Informationen liefern, um Prozessbedingungen anzupassen, die die Zuverlässigkeit des Wafer-Designs verbessern. Das Asset bietet mit seiner fortschrittlichen Plasmaätztechnologie auch eine integrierte Ätzstation zur direkten Strukturierung von Resistfolien. Der Bediener kann direkt über das Hauptbedienfeld auf das integrierte Ätzwerkzeug zugreifen, so dass beide Prozesse einfach auf derselben Waferkassette ausgeführt werden können. Diese Ätzlösungsfunktion bietet zudem geringe Verschmutzungen, einfache Handhabung und schnelle Wafer-Wendezeiten. TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius bietet eine All-in-One-Plattform für die fortschrittliche Lithographie-Produktion, die erhöhte Ausbeute, höhere Zuverlässigkeit und schnelleren Durchsatz ermöglicht. Clean Track Lithius bietet mit seinen traditionellen und innovativen Funktionen eine leistungsstarke Lösung für kritische Lithographieanwendungen.
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