Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9351008 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung, die mit dem Ziel entwickelt wurde, präzise Herstellungsprozesse zu verbessern. Es kombiniert neuartige chemische Formeln mit einem spezialisierten optischen Lithographiesystem, um ultrafeine Präzisionsmuster mit fortschrittlicher Photoresistschicht zu erzeugen. Diese fortschrittliche Einheit wurde entwickelt, um präzise Photolithographie auf den kleinsten elektronischen Komponenten und Chip Herstellungsprozesse zu ermöglichen. Die von TEL entwickelte Photolackmaschine nutzt ein maßgeschneidertes lichtempfindliches Material, das für höchste Präzision in ultrafeinen Mustern optimiert ist. Das speziell formulierte Material soll jede Möglichkeit des Übersprechens oder der Interferenz zwischen den mikroskopischen Komponenten der Photoresistschicht beseitigen. Darüber hinaus ist die Komponente des optischen Lithographie-Werkzeugs in der Lage, Präzisionsmuster, Linien und Bohrer deutlich kleiner zu produzieren als bei herkömmlichen Systemen. Die optische Lithographie in diesem Photoresist-Modell verwendet ein hausgemachtes progressives Scan-Belichtungsgerät mit einem kurzwelligen (ultravioletten) Laser. Das Scan-Belichtungssystem ist in der Lage, eine breite Palette von Mustern mit ausgezeichneter Genauigkeit zu erstellen. Mit dem kurzwelligen Laser können auch Muster auf konstruktiver Ebene erzeugt werden, die kleiner sind als die angegebenen makroskopischen Komponenten. Auch die bildgebende Leistung von TEL Clean Track Lithius ist vielen Konkurrenten überlegen. Es ist in der Lage, ein Muster höherer Auflösung über einen breiteren Belichtungsbereich zu erzeugen. Das Gerät bietet auch eine breite Palette von Photoresist Chemie, aus denen der Benutzer für benutzerdefinierte Musterung wählen kann. Alle Komponenten, die in dieser Maschine verwendet werden, sind so konzipiert, dass sie synergetisch zusammenarbeiten, um ein gleichmäßiges scharfes und sauberes Muster zu bieten. Schließlich werden die im Photoresist-Werkzeug verwendeten chemischen Formeln optimiert, um Oberflächendefekte zu reduzieren und die Zuverlässigkeit der abgeschrägten Produktoberfläche zu verbessern. Die von dieser Anlage gelieferten Endprodukte sind äußerst zuverlässig und widerstandsfähig und eignen sich somit für die unterschiedlichsten Anwendungen. TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Photoresist-Modell bietet Anwendern eine zuverlässige und präzise Methode zur Herstellung von ultrafeinen Mustern mit ausgezeichneter Genauigkeit und minimalen Defekten.