Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9375513 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist eine Photolackausrüstung für den Einsatz in der Halbleiter- und Elektronikfertigung. Das System verwendet ein fortschrittliches Resist-Verfahren, um Photopolymer-Photoresist auf Wafern und anderen Substratmaterialien abzuscheiden und zu mustern. Die Lithius-Einheit verfügt über eine Reihe von Funktionen, die sie zu einer attraktiven Wahl für den Einsatz in anspruchsvollen Halbleiterprozessen machen, bei denen eine präzise Ausrichtung und Gleichmäßigkeit der Fotolackabscheidung von größter Bedeutung ist. Die frontale Belichtungskammer der Maschine sorgt für eine gleichmäßige und gut kontrollierte Belichtung des Widerstands entlang seiner gesamten Breite und bietet eine qualitativ hochwertige Strukturierung entlang des gesamten Wafers. Die verwendete Projektionsoptik sorgt dafür, dass die Resist-Abbildung von Mitte zu Rand des Wafers konsistent ist, mit gleichmäßiger Bewegung über die Oberfläche und ohne verfehlte oder falsch ausgerichtete Muster. Neben seiner überlegenen Leistungsoptik ist das andere primäre Element des Lithius-Tools seine fortschrittliche Resist-Verarbeitung. Funktionen wie Autofokus-Steuerung und Drei-Punkte-Ausrichtung sind vorhanden, um sicherzustellen, dass alle Kontaktpunkte sauber und in Position für eine genaue Abscheidung und Strukturierung sind. Die eingesetzte Dreipunktausrichtungstechnologie sorgt auch dafür, dass die richtige Resistmenge aufgebracht wird und die Beschichtung gleichmäßig und gleichmäßig ist. Darüber hinaus verfügt TEL Clean Track Lithius über eine Reihe integrierter Sicherheitsfunktionen und Optionen. Dazu gehören aktiver und passiver ESD-Schutz, statische Neutralisationsfunktionen und atmosphärische Überwachungsgeräte. Diese Funktionen tragen dazu bei, die Sicherheit der Benutzer und Komponenten während des gesamten Prozesses zu gewährleisten. Alle diese Funktionen arbeiten zusammen, um Benutzern von TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Asset hochgenaue und konsistente Ergebnisse mit minimalem Aufwand zu bieten. Seine hervorragende Leistung und Sicherheit machen es zu einem bevorzugten Modell für anspruchsvolle und hochpräzise Photolackprozesse in der Halbleiterindustrie.