Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9375518 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist eine Photolackausrüstung für fortschrittliche Halbleiterlithographieverfahren. Es ist das branchenweit erste „NO HOOD“ -System, das Reinraum maximiert, ohne die Leistung zu beeinträchtigen. Dieses Gerät verwendet eine proprietäre Vakuumfutter-Technologie, um überlegene berührungslose Vakuumwaferhaltung und verbesserte Ausrichtungsgenauigkeit bereitzustellen. TEL Clean Track Lithius unterstützt volle SAED Schritt und Wiederholung, 3D Nähen und Overlay Ausrichtung Ausrichter. Es bietet auch verbesserte Multi-Projekt Wafer Handling-Funktionen für reduzierte Partikelanzahl, sowie Aligner Totzeit Eliminierung. Zusätzlich reduziert diese Maschine die Be- und Entladezeit erheblich. TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius unterstützt verschiedene Photoresists für die Lithographiemusterung. Dazu gehören Deep Sub Micron (DSM) Resists mit Auflösungen besser als 0,25 Mikrometer, sowie High Aspect Ratio (HAR) Resists und thermische Kompatibilität Resists (TCR) mit Submikron-Auflösungen. Sobald ein Resist ausgewählt ist, erstellt Clean Track Lithius einen einzigartigen Integrationsplan für den Prozess. Dieser Plan arbeitet mit einer proprietären Fotoresist-Formulierungsdatenbank zusammen, um optimale Auftragsrezepte für jede Schicht zu erstellen. Es funktioniert auch in Korrelation mit einem in-situ Plasma-Post-Backen und einer direkten Griff-Wafer-Lieferung für maximale Wafer-zu-Wafer-Wiederholbarkeit. Schließlich nutzt es integrierte Sortierfunktionen für eine verbesserte Musteranpassung. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius kann sowohl Batch- als auch kontinuierliche Prozesse verwalten. Es kann auch mehrere Ebenen in einen einzigen Job integrieren, um die Bildkontinuität zu verbessern. Schließlich bietet dieses Tool integrierte Prozessüberwachung und Wafer-Qualitätskontrolle, um konsistente, wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. TEL Clean Track Lithius ist eine zuverlässige, einfach zu bedienende Lösung für fortschrittliche Halbleiterlithographieverfahren. Die proprietäre Vakuumfutter-Technologie, die integrierten Prozessüberwachungsfunktionen und der umfassende Integrationsplan machen es zur idealen Wahl für präzise Musterbedürfnisse.