Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9397044 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius
ID: 9397044
Resist coater / Developer system.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung, die durch die Kombination der firmeneigenen TEL Clean Track Lithius Technologie und der diskreten Leiterbildungsprozesse die leere Bildung von Spurenschichten mit enger Breite und überlegenen Frequenzeigenschaften ermöglicht. Das System verwendet leichte und schwingungsarme Drahtzieher, um einen ultrapräzisen linearen Transport der Substratstufe zu ermöglichen. Zunächst wird das Substrat vor der Verwendung von TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius mit einer Photoresistschicht beschichtet, die dann ultraviolettem (UV) Licht ausgesetzt wird. Dadurch kann die Photolackschicht selektiv ausgehärtet werden, so dass Muster beliebig erzeugt werden können. Anschließend erfolgt im nächsten Verfahrensschritt die Entwicklung der strukturierten Photolackschicht, die das darunterliegende Metallsubstrat freilegt. Die entwickelte Photolackschicht wirkt als Schutzmaske und verhindert das Ätzen des Metalls dort, wo es aufgebracht wird. Danach wird das Ätzen des Metalls mit einer Ätzeinheit auf Plasmabasis durchgeführt, wobei die Oberfläche des Metalls einer Kombination von Gasen wie Chlor und Stickstoff ausgesetzt ist. Plasma- und Ätzgase ermöglichen eine effiziente Freisetzung von energetischen Ionen, die mit den reaktiven Arten des Metalls reagieren und flüchtige Ionencluster bilden, die das Metall schnell wegätzen. Bei dem letzten Verfahren wird eine dünne, konforme Schicht aus Isoliermaterial über der Oberfläche der geätzten Metallschicht abgeschieden. Dieses Isoliermaterial ist elektrisch tolerant und dient zur elektrischen Isolierung, um eine überlegene elektrische Leistung zu gewährleisten. Es verhindert auch die Entwicklung von Anfälligkeit und beseitigt Lärm. Die Kombination aus Strukturierung über Photoresist, Plasmaätzen und isolierender Abscheidung ermöglicht Clean Track Lithius, Spurenschichtmuster im Mikrometermaßstab mit außergewöhnlicher elektrischer Leistung zu erzeugen. Diese Maschine ist heute weit verbreitet in verschiedenen Elektronik- und Photonik-Anwendungen, einschließlich Miniaturisierung in Kommunikationssystemen und hochdichte Verbindungen.
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