Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9404400 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist eine Breitspektrum-Photoresist-Ausrüstung, die für fortschrittliche lithographische Prozesse in einer breiten Palette von Bildgebungs- und Geräteherstellungsanwendungen entwickelt wurde. Es enthält ein modernes mikroskopisches Bildgebungssystem, um klare, saubere Replikate von Maskenbildern mit hoher Auflösungsgenauigkeit zu gewährleisten. Das Gerät verwendet eine einwellige KrF-Excimer-Laserquelle mit einer Kombination inkohärenter Abbildungsoptiken, um hochauflösende Bilder über einen Bereich von Tiefen und Größen zu erzielen. Der Photolack ist eine Doppelschicht aus isotropen und anisotropen immobilisierenden Komponenten. Das isotrope Element sorgt für eine hervorragende Benetzung, während das anisotrope Element dafür sorgt, dass Tauchprojektionen während des Prozesses eine gute Auflösung erhalten. TEL Clean Track Lithius verwendet einen innovativen Musterdesign-Prozess, um Musterversatzfehler zu reduzieren. Die Maschine bietet Optionen für schnelles und Vollfeldscannen, Vertikal- und Horizontal-Break-Scannen sowie mehrschichtiges oder integriertes Feld-Scannen. TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Werkzeug bietet auch eine selbstadaptive Kompensationsfähigkeit zur Verringerung von Verzerrungen durch Nichtlinearitäten im bildgebenden Prozess. Der Anwendungsprozess des Elements beginnt mit der Photomaskierung, einem Prozess, bei dem ein Maskenbild für jedes Muster erstellt wird. Dieses Bild wird dann auf die Photolackschicht übertragen und auf ein Substrat gesetzt. Licht wird verwendet, um den Lichtbereich zu reduzieren und das Muster auf der Maske zu erzeugen. Nach dem Belichten der Photolackschicht wird eine Schicht aus verstärkender Flüssigkeit aufgebracht, um die Haftung des Photolacks auf dem Substratmaterial zu verbessern. Schließlich wird zur Vervollständigung der Struktur ein Härtungsprozess mit intensivem UV-Licht eingesetzt. Insgesamt bietet Clean Track Lithius eine breite Palette von Funktionen, die eine hochpräzise, zuverlässige Lithographie und Geräteherstellung ermöglichen. Das fortschrittliche Bildgebungsmodell, der Musterentwurfsprozess und die selbstadaptive Kompensationsfähigkeit sorgen für präzise und saubere Ergebnisse mit hoher Auflösungsgenauigkeit. Diese Ausrüstung ist eine gute Wahl für alle, die eine umfassende, hochwertige Fotolackanlage suchen.