Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 5z #9198153 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 5z ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Herstellung von mikroelektronischen Geräten. Es ist bekannt für seine branchenführenden Fähigkeiten bei der Bereitstellung überlegener Partikel- und elektrostatischer Entladungsergebnisse sowie überlegener Reinraum- und Werkserträge. Die Mark 5z ist ein wesentliches Werkzeug bei der Herstellung von integrierten Schaltungen (ICs), OLEDs, LEDs und anderen Geräten, die extreme Sauberkeit erfordern. Das Photolacksystem besteht aus zwei Hauptkomponenten: einer laserbasierten Belichtungseinheit und einer lösungsbasierten Belichtungsmaschine. Das laserbasierte Belichtungswerkzeug projiziert mit einem fokussierten Laserquanten Lichtmuster präzise auf ein mit einem lichtempfindlichen Material beschichtetes Substrat. Durch sorgfältige Abstimmung von Lichtintensität und Muster wird das Material belichtet und in eine Photolackschicht umgewandelt. Die Photolackschicht wird dann als Ätzmaske bei chemischen Ätzprozessen verwendet, die zur Herstellung der Komponenten einer mikroelektronischen Vorrichtung dienen. Das lösungsbasierte Belichtungsmittel badet das Substrat genau in eine Flüssigkeit, die lichtempfindliche Chemikalien enthält. Diese Chemikalien reagieren auf eine vorgegebene Lichtintensität und ergeben eine Photoresistschicht der gewünschten Form. Dieses Belichtungsmodell eignet sich für Mikrostrukturen, die mit einem laserbasierten Gerät nicht exakt belichtet werden konnten. Die Mark 5z verwendet drei verschiedene Stufen, um die höchsten Ausbeuten und Zuverlässigkeit des Photoresist-Prozesses zu gewährleisten. Die erste Stufe des Verfahrens beinhaltet die Vorbehandlung, bei der das Substrat für die Photolackapplikation vorbereitet wird. Dazu gehören die Entfernung von Oberflächenverunreinigungen, die Spülung, die erhitzte Trocknung und die Metallabscheidung, die alle dazu beitragen, dass der Photoresist gleichmäßig und stark anhaftet. Die zweite Stufe ist der Photolackschichtaufbau, bei dem sowohl Laser- als auch Lösungsbelichtungssysteme eingesetzt werden. Dabei wird das Substrat entweder mit Photolackmaterial besprüht oder einem Laser oder einer Flüssigkeit ausgesetzt. Dadurch entsteht eine präzise Nachbildung des vorgesehenen Designs, die eine hochpräzise Herstellung komplexer mikroelektronischer Strukturen ermöglicht. Die dritte Stufe des Verfahrens ist die Entwicklungsstufe, in der ausgegaste Chemikalien durch den Bake-Modus geleitet wurden, um die Photolackschichten zu heben und zu entfernen. Unerwünschtes Material wird dann mit einer Vielzahl von Techniken entfernt. Nach Abschluss des Entwicklungsprozesses ist das Substrat zur Weiterverarbeitung und Verwendung bereit. Insgesamt ist TEL Clean Track Mark 5z ein zuverlässiges Photoresist-System, das hohe Erträge und Perfektion von Komponenten erzeugen kann. Es wird in vielen Branchen eingesetzt, um den Anforderungen der heute immer anspruchsvolleren mikroelektronischen Geräte gerecht zu werden.