Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 / Mark 8 #9158032 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 / Mark 8
ID: 9158032
Wafergröße: 4"-12"
Coater / Developer system, 4"-12" Either silicon wafer substrate or LED sapphire substrate Windows GUI scheduler software with Up to date indutrial PC controller High speed SATA SSD storage system with RAID feature Wafer level recipe processing and command Real time process log Online communication (SECS/GEM) Group monitoring Either uni-cassette (open cassette) or SMIF (3 SUCs or 4 SUCs) Integrated CSB Wafer flow modification (Left to right or Right to left) Step / Scanner interface modification (ASML, Nikon, Canon, SVGL) Integrated photo resist dispense monitoring system Integrated chemical dispense monitoring system.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7/Mark 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine fortschrittliche Schritttechnologie zur Herstellung von Halbleiterbauelementen bietet. Es ist ein vollautomatisches, präzises Lithographiesystem, das außergewöhnlich detaillierte Muster auf einen Siliziumwafer übertragen kann. Die Mark 7/8 Photoresist-Einheit bietet Funktionen wie einen Großformat-Scanner und eine gleichmäßige Frequenzabtastung, die eine gleichmäßige Bildgebung, eine lange Wellenlängenbelichtung und eine schnelle und überlegene Überlagerung ermöglicht. Der Mark 7/8 verfügt über eine hohe Genauigkeit, hohe Geschwindigkeit und eine sehr zuverlässige, saubere Gleisstufe. Es ist mit einer Präzisionsstufe ausgestattet, die von einem Servomotor mit direktem Antrieb angetrieben wird und eine gleichmäßige bildgebende Belichtung über alle Oberflächen des Wafers ermöglicht. Die Maschine verfügt über einen integrierten linearen Encoder, der eine genaue Positionsrückkopplung in Echtzeit ermöglicht und externe Laserinterferometer oder Encoder überflüssig macht. Darüber hinaus ermöglicht der fortschrittliche Tracking-Controller niedrige Hintergrundgeräusche und Hochgeschwindigkeitsfahrten. Die Mark 7/8 verfügt zudem über ein optisches Werkzeug bestehend aus hochauflösenden Linsen und Motoren mit Präzisionspositionierungssteuerung zur präzisen Steuerung der Standfläche des Belichtungsstrahls. Diese Fähigkeit gibt dem Photoresist Asset die Fähigkeit, extrem hochauflösende Bildgebung mit überlegener Fokustiefe und konsistenter Strukturierung zu erzeugen. Darüber hinaus reduziert das optische Teilsystem die Menge an Streulicht und Blendung, die die Leistung konkurrierender Photolacksysteme einschränken kann. Die Mark 7/8 wurde auch entwickelt, um die Raumeffizienz zu maximieren und die maximale Auslastung bestehender oder neuer Werkstattflächen zu ermöglichen. Um diese Anforderung zu erleichtern, verfügt das Photoresist-Modell über ein schlankes, robustes und kompaktes Layout mit einem kleinen Platzbedarf, das für geeignete Werkstätten optimiert ist. Insgesamt ist TEL Clean Track Mark 7/Mark 8 eine zuverlässige Photolackausrüstung, die entwickelt wurde, um überlegene Bildgebung bei höchster Geschwindigkeit und Genauigkeit zu erzeugen, ohne die Arbeitsraumeffizienz zu beeinträchtigen. Mit seiner leistungsstarken Optik und seinen Tracking-Servomotoren eignet sich das System ideal für die Erstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente in anspruchsvollen Arbeitsumgebungen.
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