Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293620432 zu verkaufen

ID: 293620432
Wafergröße: 8"
(1) Coater / (3) Developer system, 8" Process: i-Line develop unit Power transformer S2-93 Developer: Stream nozzle Top rinse nozzle Back rinse nozzle Temperature control Motor flange temperature control Direct gravity drain Auto damper External chemical cabinet: TEL OEM SMC Thermo controller (5-Channels) Wafer direction: Left to right Right to left 1994-1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ist eine Photolackverarbeitungsanlage, die speziell für die automatisierte Entwicklung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Das System verwendet einen Abscheidungsprozess tocoat eine Waferoberfläche mit Photoresist-Beschichtungsmaterial, die dann mit UV-Licht ausgesetzt wird, um ein gewünschtes Muster zu bilden. Das Muster wird dann entwickelt und durch Ätzen auf den Wafer übertragen. TEL Clean Track Mark 7 besteht aus einer zweistufigen Spin-Track zum Ätzen und einer Vakuummaschine, die beide über eine integrierte Steuerelektronik verbunden sind. Die Spinnbahn weist zwei Kammern auf: Die obere Kammer dient zur Abscheidung von Photolack, während die untere Kammer zur Belichtung des Materials mit UV-Licht dient. Das Vakuumwerkzeug sorgt für Vakuumdruck zum Ätzen und zum Entfernen des Fotolacks von der Arbeitsfläche. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 verfügt über eine Reihe fortschrittlicher Funktionen, darunter eine automatisierte Übertragungsanlage, einen Scheinsubstrat-Handhabungsmechanismus, eine erweiterte Temperaturbereichsregelung, eine Luftversorgungsdruckregelung, eine Kühlsteuerung, einen Wafer-Aligner und ein integriertes Fehlerüberwachungsmodell. Die integrierte Steuerelektronik ist hochgradig konfigurierbar und bietet eine breite Palette an Funktionen wie Wafer-Parametereinstellung, Rezepturmanagement und generierte Ertragsüberwachung. Die Ausrüstung enthält auch eine Reihe von erweiterten Sicherheitsfunktionen zum Schutz des Personals, wie den Verriegelungsschalter und den Temperatursensor. Schließlich unterstützt Clean Track Mark 7 eine Vielzahl von Photolackmaterialien und ist auf eine erhöhte Prozesseffizienz ausgelegt. Das System verfügt außerdem über einen hohen Automatisierungs- und Steuerungsgrad, der die Geschwindigkeit, Genauigkeit und Wiederholbarkeit der Ablagerungs-, Entwicklungs- und Ätzstufen der Photolackverarbeitung verbessern kann.
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