Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293632604 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 293632604
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
(1) Coater / (2) Developer system, 8"
Silicon wafer
Wafer flow: Right to left
Single block
Process station (PSB): Process block robotic arm (PRA)
ADH
(4) LHP
(3) CPL
FC-9801 F Controller
Stage: Cassette stage
Indexer: Open CSB
CRA
2-1 COT unit:
Resist dispense nozzle with HV pump
Side rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Photoresist temperature controller
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
2-2 / 2-3 DEV unit:
Stream nozzle
Dual D.I top rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispenser
Chemical supply system:
Solvent supply for COT unit
Develop solution supply for (2) DEV units
Power transformer
SHINWA THC Temperature and humidity controller
Hard Disk Drive (HDD) included
(2) Circular pumps missing
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 Photoresist ist eine High-End-Technologie für die Photolithographie, die bei der Herstellung von High-End-Elektronikprodukten verwendet wird. Es wird weitgehend in der Herstellung von Halbleiterintegrierten Schaltungen (ICs) und Leiterplatten (PCBs) eingesetzt. Das TEL Clean Track Mark 7 System bietet modernste Funktionen, um eine saubere und effiziente Produktion von Photomasken zu gewährleisten. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 bietet fortschrittliche Funktionen wie ein Multizonen-, Multimuster-Belichtungsverfahren und Antireflexbeschichtungen. Das macht Photomasken, die mit der Einheit erzeugt werden, präziser, vorhersehbarer und konsistenter. Die Maschine verwendet auch eine High-End „Superfeld“ -Technologie, die die höchste Gleichmäßigkeit der Beleuchtung auf dem größtmöglichen Feld mit einem einzigen Kopf Belichtungswerkzeug bietet. Dies gewährleistet eine präzise und gleichmäßige Belichtung der gesamten Photomaske. Die „Superfeld“ -Technologie ermöglicht auch Direkt-auf-Wafer-Expositionen für andere Anwendungen wie Post Exposure Bake (PEB) -Lösungen. Das Asset verfügt auch über ein integriertes Datenübertragungsmodell für die Kommunikation mit Hostsystemen. Diese Funktion ermöglicht schnelle Downloads und Analyse von Daten aus dem Gerät. Clean Track Mark 7 Photoresist-System hat auch viele erweiterte Automatisierungsfunktionen wie integrierte Temperaturregelung und Verschlussbetätigung. Dies ermöglicht eine präzise und präzise Steuerung der Belichtungszeiten und ermöglicht eine präzise Produktverfolgung während des gesamten Belichtungsprozesses. Diese Automatisierungsfunktion ist entscheidend für die Senkung der Gemeinkosten im Zusammenhang mit der Photolithographie-Produktion. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 Photolackeinheit bietet auch erweiterte Schutzfunktionen. Dazu gehören eine Schwingungsisolationsmaschine, statischer/dynamischer Schutz, Luftfiltration und Fehlerisolierung. Diese Eigenschaften ermöglichen einen besseren Schutz der Werkzeugkomponenten während des Expositionsprozesses und stellen sicher, dass das Gut unter guten Betriebsbedingungen bleibt. Insgesamt ist das Photoresist-Modell TEL Clean Track Mark 7 eine unschätzbare Technologie für die Herstellung hochpräziser und zuverlässiger Photomasken. Es bietet erweiterte Funktionen und Automatisierungsfunktionen, die die effiziente Herstellung komplexer Schaltungen ermöglichen. Das Gerät eignet sich gut für den Einsatz in der Halbleiter- und Leiterplattenindustrie.
Es liegen noch keine Bewertungen vor