Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293746057 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Nanobearbeitung von elektronischen Schaltungen und Geräten. Das System verwendet eine leistungsstarke UV-Lichtquelle, um einen bestimmten Bereich des Substratmaterials selektiv zu beleuchten. Dieser belichtete Bereich wird dann mit einer Schicht aus Photolack beschichtet, die eine isolierende Schicht zum Schutz von darunter liegenden Komponenten und Schichten des Substrats vor weiterer Belichtung bereitstellt. Mit der Einheit kann dann die belichtete Fläche der Photolackschicht weggeätzt werden, um das gewünschte Muster für die weitere Verarbeitung zu erzeugen. Die Lichtquelle auf TEL Clean Track Mark 7 ist eine plasmabrannte Keramiklampe aus Siliziumkarbid, die UV-Licht mit einer spektralen Wellenlänge von etwa 365nm - 395nm erzeugt. Dies ermöglicht eine höhere Präzision im photolithographischen Betrieb. Die Lichtquelle kann aus verschiedenen Winkeln auf das Substrat gerichtet werden, was eine größere Kontrolle des Konstruktionsprozesses ermöglicht. Die Photolithographiemaschine umfasst auch eine Maske, die zwischen dem Substrat und der Lichtquelle angeordnet ist. Es enthält das Muster, das auf das Substratmaterial aufgebracht werden soll. Die Maske ist ein integraler Bestandteil des Werkzeugs und kann leicht gewechselt werden, um verschiedene Muster auf verschiedenen Substraten zu ermöglichen. Neben der Lichtquelle und der Maske enthält TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 auch ein Softwarepaket, mit dem das Modell gesteuert und die gewünschten Muster erstellt werden können. Es ermöglicht auch eine Echtzeit-Überwachung und Rückkopplung des Photolithographiebetriebs, wodurch der Prozess weitaus zuverlässiger und weniger anfällig für Defekte und Fehler ist. Clean Track Mark 7 ist eine leistungsstarke und anspruchsvolle Photoresist-Ausrüstung, die bei der Erstellung komplexer elektronischer Schaltungen und Geräte verwendet wird. Seine leistungsstarke Lichtquelle, die Fähigkeit, den Belichtungswinkel zu kontrollieren und die Fähigkeit, die Maske schnell und einfach zu manipulieren, trägt dazu bei, Präzision und Genauigkeit im Nanobearbeitungsprozess zu gewährleisten und ermöglicht die Erstellung sehr kleiner und komplizierter Designs. Das Softwarepaket trägt auch dazu bei, dass Fehler und Mängel schnell erkannt und beseitigt werden. Kurz gesagt, es ist ein unverzichtbares Werkzeug für den Nanobearbeitungsprozess.