Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293746058 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ist eine von TEL Ltd. entwickelte Photoresist-Ausrüstung. Das System ist für Maschinenbediener zur Präzisionsbearbeitung und Reparatur von hochdichten integrierten Schaltungen (HDICs) und HAR-Geräten (High-Aspect Ratio) konzipiert. Diese fortschrittliche Photoresist-Einheit wurde entwickelt, um Substratschäden zu reduzieren und bietet eine lithographische Genauigkeit, wenn sie für die Änderung empfindlicher Geräte verwendet wird. Die Maschine besteht aus einer Abscheidestation, einer Mustertechnikstation und einer Auswertestation. Die Abscheidestation ermöglicht die Abscheidung von Photolackmaterialien auf dem Substrat mit hoher Genauigkeit. Die Mustertechnikstation ermöglicht die Erzeugung von hochgenauen Mustern auf dem Substrat, während die Auswertestation die Beurteilung der abgeschiedenen Muster ermöglicht. TEL Clean Track Mark 7 Photoresist-Tool verwendet ein patentiertes Beschichtungsverfahren, das eine einzigartige Vorbehandlungsstufe umfasst. Dabei wird das Substrat mit einem Plasma auf Sauerstoffbasis behandelt, um Verunreinigungen und Oxidationsschichten zu entfernen, was die Qualität abgeschiedener Photoresists verringern kann. Die Vorbehandlungsstufe gewährleistet auch die effiziente Haftung des Photolacks auf dem Substrat. Das Photoresist Asset verfügt zudem über ein hochwertiges Abbildungsmodell, das einen digitalen Bildsensor, eine hochpräzise optische Linse und einen proprietären Bildverarbeitungsalgorithmus umfasst. Dieses Gerät verwendet modernste Technologie, um eine höhere Auflösung des bildgebenden Prozesses zur Verfügung zu stellen, die eine genaue Kontrolle der Musterbildung ermöglicht. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 Photoresist-System verfügt auch über automatisierte Muster-Korrektur-Technologien, die die Einstellung der Größe, Form und/oder Orientierung der Resistmuster ermöglichen. Dieses Merkmal ermöglicht die Herstellung sehr präziser Muster, die enge Toleranzen und hohe Ausbeuten erzielen können. Zusätzlich ist diese Photolackeinheit mit einer Partikelentfernungsmaschine ausgestattet, die zur Verringerung der Partikelverunreinigung im Photolack beiträgt. Dieses Tool hilft dem Photolack, sauber zu bleiben und ermöglicht die Bildung von hochgenauen Resistmustern. Zusammenfassend ist das Clean Track Mark 7 Photoresist-Modell eine fortschrittliche Lösung für die Verarbeitung und Reparatur von HDICs und HAR-Geräten. Das patentierte Beschichtungsverfahren und die automatisierten Musterkorrekturtechnologien ermöglichen die Bildung genauer und präziser Resistmuster, während die bildgebende Ausrüstung und das Partikelentfernungssystem die Sauberkeit und Genauigkeit gewährleisten.