Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293819950 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ist eine automatisierte Photoresist-Ausrüstung für Präzisionsprozesse, Abscheidungen und Ätzarbeiten. Das System zeigt eine Hochleistungslaserkopisteneinheit, die Hopräzisionsbedeckungsanordnung berücksichtigt. Die Maschine ist mit einer Reihe von prozesseinstellbaren Parametern ausgestattet, wodurch es einfach ist, sich für verschiedene Substrattypen oder Prozessanforderungen einzustellen. Der Photolack kann im Dünnfilmformat zur hochauflösenden Strukturierung kleiner Geometrien geliefert werden. Das Werkzeug verwendet eine ultrahochfrequente Mehrstrahl-Laserquelle, die eine Reihe von Laserpulsen erzeugt, um Muster auf die Substratoberfläche aufzuschreiben. Die Schreibermarken werden dann als Ausrichtungsreferenzen für den Photolackabscheidungszyklus verwendet. Die Anlage ist in der Lage, die Topographie der Substratoberfläche genau zu steuern, was eine genaue Positionierung und Registrierung des Photolacks über den eingebetteten Markierungen ermöglicht. Das Photolackmodell kann Photolackmaterial in Dünnschichtform auf eine Substratoberfläche aufbringen. Diese präzise Dünnschichtabscheidung ermöglicht eine hochauflösende Strukturierung kleiner Geometrien, ideal für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Das Gerät ist ferner mit einer integrierten Kamera zur präzisen Ausrichtung des Laserstrahls für den Scribing-Prozess ausgestattet. Diese Kamera wird auch für Echtzeit-Rückkopplung während des Abscheidungsprozesses verwendet, wodurch eine hochgenaue Registrierung des Fotolacks über die geritzten Markierungen ermöglicht wird. Das Photolacksystem ist auf Wiederholbarkeit und Durchsatz ausgelegt. Das Gerät ist mit bis zu 2.000 Photorecords pro Stunde ausgestattet. Dieser hohe Durchsatz macht es ideal für Anwendungen, in denen der Durchsatz kritisch ist, wie z. B. große Produktionsabläufe. TEL Clean Track Mark 7 Maschine ist eine ideale Lösung für die Abscheidung von Photolackmaterial über geritzte Substrate. Die Hochleistungsmehrbalkenlaserquelle ermöglicht genauen scribing und Registrierung des photowiderstehen Materials. Die integrierte Kamera und die automatisierte Prozesssteuerung ermöglichen eine hochgenaue Musterung mit minimalen Fehlern und schnellen Zykluszeiten. Die Anlage ist sehr vielseitig einsetzbar und eignet sich somit ideal für hochauflösende Strukturierungen kleiner Geometrien mit einer Vielzahl von Substraten und Prozessanforderungen.