Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9165472 zu verkaufen
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ID: 9165472
Wafergröße: 8"
Coater / (2) Developer system, 8"
Scrubber
Single block
Interface
CANON Stepper
Wafer flow: Left to right.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 (CTM-7) ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die von Tokyo Elecctron Inc. entwickelt wurde und in fortschrittlichen Halbleiterherstellungsprozessen verwendet wird. Der CTM-7 nutzt eine Reihe modernster Technologien, die es ihm ermöglichen, Wafer schneller und genauer als je zuvor zu bearbeiten. Der CTM-7 nutzt ein Relais-Gleissystem mit hochpräzisen Blei- und Walzschrauben sowie eine Wälzführungsanordnung, die dafür sorgt, dass Wafer auf einem präzisen Weg fahren. Darüber hinaus verwendet die CTM-7 eine einzigartige zweistufige Rotationsstruktur, um eine gleichmäßige Bewegung des Wafers zu gewährleisten und den Zeitaufwand für die Drehung des Wafers zu reduzieren. Das CTM-7 ist auch mit einer hochauflösenden Kameraeinheit ausgestattet, die es ermöglicht, Waferinformationen zu erkennen und zu speichern. Diese Informationen dienen dann der Führung des Photolackprozesses auf dem Wafer, wodurch eine optimale Applikation des Photolacks gewährleistet wird. Das CTM-7 ist außerdem mit einer Mehrzonen-Temperaturregelmaschine ausgestattet, die in den verschiedenen Bereichen des CTM-7 gleichmäßige Temperaturen aufrechterhalten kann. Das Werkzeug ist in der Lage, Temperaturen von -10 ° C bis + 250 ° C genau zu steuern. Das CTM-7 kann auch in mehrere andere Systeme integriert werden, wie nasse Bänke, Heizungsregler und Lithographiesysteme. Dies ermöglicht die Integration über mehrere Prozessstufen hinweg. Das CTM-7 ist ein hochentwickeltes Photoresist-Asset, das für die Herstellung von Halbleitern entwickelt wurde. Sein fortschrittliches Design und seine Eigenschaften ermöglichen es ihm, Wafer präzise und schnell zu verarbeiten, was es zu einem idealen Modell für den Einsatz in Produktionslinien macht. Darüber hinaus macht seine Fähigkeit, sich mit anderen Systemen zu integrieren, es zu einer leistungsfähigen Lösung für die Straffung des Photolackprozesses.
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