Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9165473 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ist eine modenselektive Photolackausrüstung mit fortschrittlichen Fähigkeiten, die es ermöglicht, lichtempfindliche Filme mit einer Vielzahl von gewünschten Eigenschaften genau abzuscheiden. Dieses System verwendet ein dreistufiges Verfahren, um eine gleichmäßige Filmdicke und nahezu perfekte Genauigkeit und Auflösung für photolithographische Anwendungen zu gewährleisten. Zunächst wird ein Satz von proprietären Photozonen basierend auf spezifischen Mustern der Materialabscheidung und Maskierung aufgebaut. Diese Zonen werden dann durch maschinelles Sehen geführt, um die Abscheidung des Photoresistfilms über die vorbestimmten Photozonen zu lenken. Der Anwender kann in Abhängigkeit von der gewünschten Art der Photolithographie zwischen unterschiedlichen Schichtdicken und weiteren weiteren Verfahrensschritten wählen. In der zweiten Stufe wird eine Plasma-Vorbehandlung angewendet, die der Verbesserung der Benetzung des Photoresistfilms dient. Eine Plasma-Vorbehandlung ist im wesentlichen ein niederenergetisch ionisiertes Gas, das hilft, die Photoresist-Reaktion vor der Bindung an die Oberfläche des Substrats aufzuheizen und zu initiieren. Durch die gezielte Steuerung der Plasmavorbehandlung kann der Anwender die Eigenschaften der Fotolackfolie gezielt für seinen bestimmungsgemäßen Zweck einstellen. Die dritte Stufe innerhalb von TEL Clean Track Mark 7 ist, wo der Photolack ultraviolettem (UV) Licht ausgesetzt ist. Dies geschieht in der Regel mit einer Reihe von Maschinen, um einige der Nachteile der manuellen Operationen zu lindern. Durch die Verwendung von mehrachsigen Bewegungssteuerungssystemen und Präzisionsoptiken kann das Gerät schnell hochauflösende Bilder mit perfekten Aufnahmeraten erzielen. Darüber hinaus nutzt die Maschine proprietäre Software-Tools, um die Auflösung zu optimieren und die Kalibrierung und Anpassung der Parameter zu automatisieren. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ist aufgrund seiner Präzision und Gleichmäßigkeit ein ideales Werkzeug für photolithographische Anwendungen. Mit seinem dreistufigen Verfahren kann die Genauigkeit und Auflösung der Photolackabscheidung mit hohem Erfolg erreicht werden. Durch den Einsatz des Materials können Fotowiderstandsmaterialien unterschiedlicher Dicke konsistent und zuverlässig erreicht werden. Darüber hinaus ermöglicht die hochautomatisierte Art des Modells einen schnellen, effizienten Prozess, bei dem der Anwender ein hohes Maß an Genauigkeit und Auflösung erwarten kann.