Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9165479 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7
ID: 9165479
Wafergröße: 8"
(2) Coater system, 8" Blank / Reserve Single block.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ist eine Photoresist-Technologie zur Verbesserung der Produktion und Leistung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Dieses System verwendet eine Reihe verschiedener Quellen, um eine gleichmäßige und konsistente Lichtdosis über die Bereiche seines Zielsubstrats zu erzeugen. Photolacksysteme werden in der Halbleiterindustrie immer wichtiger, da sie notwendig sind, um das Substrat genau zu belichten, um die gewünschten Effekte zu erzielen. TEL Clean Track Mark 7 wurde speziell entwickelt, um sowohl die Kosten als auch die Komplexität der Operationen zu reduzieren, insbesondere die vordefinierte Intensität und gleichmäßige Lichtdosis, die über den Wafer geliefert wird. Die TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 Einheit besteht aus einer Anzahl integrierter Komponenten bestehend aus einer optischen Komponente, einem Controller und einer Resistprozesssteuereinheit. Das optische Bauelement verwendet einen optimierten Beleuchter, um Licht präzise und gleichmäßig auf das Substrat zu liefern. Dadurch wird sichergestellt, dass Genauigkeit und Wiederholbarkeit des Photolackprozesses erreicht wird. Die Steuerung ist für die Regelung der Intensität des emittierten Lichts und die Dosismessung zuständig, wodurch eine Rückkopplung und Steuerung der optischen Komponente und der Resistprozesssteuereinheit erfolgt. Die Resistprozesssteuerung dient der Steuerung der Chemisch-Galvanischen und Trockenen-Infiltrieren Prozesse und spielt eine entscheidende Rolle bei der Optimierung der Prozessparameter des Ätzens. Um die wichtigsten Probleme im Zusammenhang mit dem Photolackprozess anzugehen, ist die Clean Track Mark 7 Maschine mit einer Reihe von herausragenden Merkmalen wie verbessertem thermischem Profil, präzisem Timing und gleichmäßiger Lichtintensität über das Substrat ausgelegt. Um dies zu erleichtern, sind ein hocheffizienter Photonendetektor und eine gleichmäßige Lichtquelle in das Werkzeug integriert. Zusätzlich erfolgt eine genaue Steuerung der Dosis- und Belichtungszeit durch den Regler. Diese Eigenschaften garantieren effiziente und präzise Arbeitsabläufe und maximieren so die Produktivität und den Lithographieertrag. Darüber hinaus ist TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 Asset mit einer 10-Zoll-Diffusionsplatte ausgestattet, die es ermöglicht, feinere Muster auf dem Substrat zu ätzen, was eine verbesserte Prozessfensteroptimierung ermöglicht. Zusätzlich kann die Resistdicke auch in Echtzeit mit einem speziellen Sensor gemessen werden, was eine präzise Resistverarbeitungssteuerung ermöglicht. Insgesamt ist das Modell TEL Clean Track Mark 7 eine optimale Wahl für den Kontaktdruck und die Lithographie in der Halbleiterverarbeitung. Es verfügt über erweiterte Funktionen wie eine fein abgestimmte optische Komponente, genaue Steuerung und verbesserte Resistverarbeitungseinheit. Diese Komponenten kombinieren präzise und gleichmäßige Lichtdosis über das Substrat, effektive thermische Profil und genaue Kontrolle der Dosen und Belichtungszeit zu liefern. Damit ermöglicht TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 eine effiziente und kostengünstige Halbleiterproduktion.
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