Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9196447 zu verkaufen

ID: 9196447
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1992
Coater / Developers system, 6" System: Left to right for 8" wafer Indexer: 4 Cassette stage (Uni-Cassette) Configuration: Main body 1 IF Chemical cabinet 1 & 2 THC PC Rack Main controller: NEC FC-9801X C/S Robot type: Vacuum arm / Ceramic pincette Main robot type: 3-Pincette arm Indexer: Laser diode mapping sensor SCR: JET Nozzle / Rinse nozzle Coat: (4) Resist nozzles Bellows pump 1 gallon resist bottle Thinner local supply (Canister) EBR Nozzle Back rinse nozzle Local drain (1ST SUS 10L Tank / Drain pump) DEV: Nozzle type: E2 Nozzle Rinse nozzle Back rinse nozzle local supply Facility drain WEE: UL-200T-L1 UV Light source AD: Local supply Currently warehoused 1992 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 (CTM-7) ist eine Photoresist-Ausrüstung, die in den Herstellungs- und Bauprozessen der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es wird für eine Vielzahl von Anwendungen wie Photolithographie, Nass- und Trockenätzen und andere photonische Verfahren verwendet. Das CTM-7 ist für große, komplexe Wafer mit hochpräzisen Funktionsgrößen von bis zu 0,25 Mikrometern ausgelegt. Es hat einen hohen Durchsatz und ist im Vergleich zu anderen Photolacksystemen sehr effizient. Die CTM-7 verwendet eine Kombination aus indirekter und direkter Laserprojektionsoptik, um die Photolackschicht genau auf das Wafersubstrat zu positionieren. Der Photolack wird durch elektrostatische Kraft auf einer EPC-Walze gehalten, so dass er mit einer Zentriergenauigkeit von +/- 1micron exakt positioniert werden kann. Die Ausgabe der Photolackschicht erfolgt durch den Hochpräzisionsspender entsprechend den vorgegebenen Parametern für den Auftrag. Danach strahlt der Laser auf die Photolackschicht, um das darunter liegende Substrat freizulegen. Das belichtete Substrat wird dann entsprechend den Auftragsparametern auf eine definierte Tiefe geätzt. Das CTM-7 verfügt zudem über ein modernes Vakuum-Handling-System, das eine optimale Ausrichtung und Handhabung des Wafers ermöglicht. Nach dem Ätzen wird der Wafer gewaschen und in einem dielektrischen Bad gespült, bevor er automatisch zum Trocknen in den Schleudertrockner geladen wird. Der Schleudertrockner sorgt für verbesserte Taktzeiten und erhöht die Sauberkeit des Wafers. Das CTM-7 wird auch mit einer automatischen Wafer-Inspektionseinheit geliefert, die es Anwendern ermöglicht, schnell und genau auf Defekte auf der Waferoberfläche zu überprüfen. Darüber hinaus ist es mit einer fortschrittlichen Prozessüberwachungsmaschine ausgestattet, die mittels Bildverarbeitung die Prozessschritte in Echtzeit überwacht und Parameter automatisch entsprechend anpasst. Dadurch wird sichergestellt, dass die Photolithographie-, Ätz- und Reinigungsprozesse alle auf optimalem Qualitätsniveau ablaufen. Abschließend ist TEL Clean Track Mark 7 ein zuverlässiges und effizientes Photolackwerkzeug, das hohe Leistung und Genauigkeit sowie verbesserte Zykluszeiten bietet. Seine fortschrittlichen Funktionen, wie die Vakuum-Handling-Anlage und das Prozessüberwachungsmodell, stellen sicher, dass der Prozess auf dem höchsten Standard an Qualität und Präzision abgeschlossen ist.
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