Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9243714 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7
ID: 9243714
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1994
(2) Coater system, 8" 1994 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ist eine hochmoderne Photoresistausrüstung, die im Photolithographieverfahren in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Das System wurde entwickelt, um die Genauigkeit und Wiederholbarkeit von Sub-Mikron-Funktionen in integrierten Schaltungen zu verbessern. Die Photolithographie ist ein Verfahren, mit dem Muster auf ein Substratmaterial wie Halbleiterscheiben, LCD-Glas oder andere in der Halbleiterindustrie verwendete Materialien aufgebracht werden. Das Gerät verwendet eine leistungsstarke Projektionsoptik und eine hochgenaue Stufe, um die belichteten und unbelichteten Teile des Substratmaterials auszurichten. Um seine überlegene Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu erreichen, umfasst die Maschine TEL Clean Track Mark 7 ein hochleistungsfähiges optisches Werkzeug sowie eine Bewegungskontrolle, um den Weg und die Inspektion des Substratmaterials zu steuern. Das optische Modell ist mit einer breitbandigen Kollimationslinse ausgestattet, die Licht auf die Beschichtung fokussiert. Eine Hochgeschwindigkeits-, ultrapräzise, schrittweise und wiederholte Bewegungssteuerung besteht aus einer 3-achsigen linearen Stufe zur Substratausrichtung und -platzierung sowie einem 6-achsigen Gelenkroboterarm zum Scannen, Inspizieren und Spülen. Dieses System ermöglicht eine präzise und wiederholbare Aufbringung von Schichten aus Photolackmaterial auf das Substratmaterial. Die Technologie umfasst auch eine automatisierte Reinigungsstation zum Entfernen von Rückständen, Staub und Verunreinigungen aus dem Substratmaterial und eine Filmprüfstation zum Bestätigen der ordnungsgemäßen Schichtplatzierung und Ausrichtung. Die hochmoderne TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 Einheit beinhaltet auch innovative Bilderkennungsalgorithmen und Roboterwerkzeuge zur Inspektion und Optimierung von Photoresistschichten. Die Maschine ist in der Lage, Fehler und Fehler so klein wie 2µm zu erkennen, und kann Linien-Kanten-Rauhigkeit und Spitze-zu-Spitze-Abstand bei 5µm Genauigkeit messen. Clean Track Mark 7 Werkzeug ist von TEL patentiert und ist ein führender Photolack für die Implementierung modernster Halbleiterprozesstechnologie. Dieses fortschrittliche Modell bietet hohe Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit für präzise Photolithographie-Prozesse, die von vielen Branchen wie Halbleiter, Display und Datenspeicherung verwendet werden. Die Präzision und Vielseitigkeit der Ausrüstung machen es zu einer idealen Lösung für die Herstellung kleiner, extrem dichter elektronischer Komponenten.
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