Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9265762 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für hochpräzise Anwendungen wie die Herstellung mikroelektronischer Komponenten entwickelt wurde. Es verfügt über eine hochpräzise, stressarme und klimafreundliche Ätzumgebung, die die Herstellung komplexester Strukturen mit Leichtigkeit ermöglicht. TEL Clean Track Mark 7 ist ein System, das drei Komponenten umfasst: eine Taucheinheit, eine Transfereinheit und eine Trockeneinheit. Die Taucheinheit ist eine Vakuumkammer, die in eine lösungsmittelbasierte Ätzlösung getaucht wird. Dies ermöglicht einen wiederholbaren, hochgleichmäßigen Ätzprozess und erübrigt die Notwendigkeit von Nachätzbehandlungen. Die Transfereinheit überträgt die strukturierte Fotolackmaske vom Wafer zur Taucheinheit und die Trockeneinheit treibt überschüssige Flüssigkeit aus dem geätzten Material ab. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ist in der Lage, Funktionen bis zu 45nm Durchmesser genau zu ätzen, mit außergewöhnlicher Kantensteuerung und ausgezeichneter Linienbreitensteuerung. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Photolackmaterialien zu handhaben, so dass es für eine Reihe von hochempfindlichen Mikroherstellungsprozessen verwendet werden kann. Das Gerät verfügt zudem über eine hohe Präzision der Waferbearbeitung mit einer wiederholbaren Genauigkeit von 0,6 μ m über 5 μ m lange Stufen. Neben der hochpräzisen Ätztechnologie verfügt Clean Track Mark 7 über ein modulares Design, das es Anwendern erleichtert, sich anzupassen. Es ist auch mit einer bequemen und intuitiven Bedienoberfläche ausgestattet, um bei der Prozessüberwachung und -steuerung zu helfen. Die Maschine verfügt über eingebaute Funktionen, um die Prozesskonsistenz zu gewährleisten, und ist so konzipiert, dass sie zuverlässig, effizient und sicher ist. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ist ein effizientes und zuverlässiges Photolackwerkzeug, das die hohen Anforderungen im Zusammenhang mit der Herstellung der modernsten Halbleiterbauelemente erfüllen kann. Es ermöglicht hochpräzises Ätzen mit ausgezeichneter Ätzratenkontrolle und einer breiten Palette von Waferbehandlungsfähigkeiten und liefert Zeit für Zeit qualitativ hochwertige Ergebnisse.