Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9395128 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die die Produktion von integrierten Schaltungen mit hohem Durchsatz ermöglicht. Das System wurde entwickelt, um die Beschichtung von Photoresist zu perfektionieren und Trimmprozessen mit bemerkenswerter Genauigkeit zu widerstehen, was saubere, symmetrische und klar definierte Schaltungsmuster ermöglicht. Im Zentrum der TEL Clean Track Mark 7 steht die modernste automatisierte Beschichtungsstation. Diese Station arbeitet mit dem präzisen Aufbringen von Photoresists auf Waferoberflächen durch Atomschichtabscheidung (ALD). ALD wird verwendet, um eine einheitliche Beschichtungsabdeckung zu gewährleisten, selbst wenn sie überall auf dem schwer erreichbaren Wafer liegt. Auch sein Niederdruck-Dampfstrahl-Spray maximiert die Lösungsmitteleffizienz. Dies ist besonders bei kleineren Geräten wichtig, bei denen eine gleichmäßige Abdeckung des Resistmaterials wichtig ist. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 verfügt zudem über ein hochgenaues Resist-Trimmverfahren. Es verwendet eine erweiterte Nahfeldstrahloptik, um unerwünschte Resist-Reste zu trimmen. Diese Maschine verfügt über eine einzigartige Lichtstrahlwinkeleinstellung, so dass sie die Kanten des gewünschten Musters genau profilieren kann. Es verfügt auch über einen hochauflösenden, 0,94-Mikron-Laser, der ein sauberes, präzises Trimmen ermöglicht. Das Tool bietet auch automatische Einstellungen, die die Trimmstufen überwachen und sicherstellen, dass sie beibehalten werden. Darüber hinaus bietet der hochpräzise Substrat-Aligner von Clean Track Mark 7 eine hervorragende Gleichmäßigkeit des Resistmaterials über dem Wafer. Diese Anlage arbeitet auch bei einer sehr niedrigen Temperatur und gewährleistet eine gleichmäßige Abdeckung bei minimalen Temperaturschwankungen. Durch die Kombination von optischer Erkennung und direkter Verschiebung/Ausrichtung kann der Substratausrichter präzise Luftspaltmessungen durchführen und der Musterbildung widerstehen. Neben den Photoresist-Fähigkeiten verfügt TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 auch über mehrere weitere Verfahren, die den Waferherstellungsprozess unterstützen. Eine davon ist der Abhebevorgang, der nach Beendigung des Resistcoat-Prozesses zur Entfernung nicht bearbeiteter Flächen verwendet wird. Dieses Modell ist auf hohe Genauigkeit ausgelegt - es verwendet eine effiziente Ablassdichtungsausrüstung, die verhindert, dass überschüssiges Lösungsmittel den Wafer verschüttet und beschädigt. Mit dem Abhebeprozess von TEL Clean Track Mark 7 können präzise, saubere Kanten erreicht werden, die maximale Produktionseffizienz und -ausbeute gewährleisten. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 ein hochleistungsfähiges Photolacksystem. Die sorgfältig entwickelte Beschichtungsstation, automatisierte Trimmverfahren und präzise Substratausrichtung machen sie zu einer idealen Einheit für die Herstellung sauberer, symmetrischer und klar definierter Schaltungsmuster für eine Vielzahl von Anwendungen. Darüber hinaus ermöglicht der integrierte Abhebeprozess eine schnelle und genaue Entfernung nicht bearbeiteter Bereiche, um den Ertrag zu maximieren und die Produktionseffizienz zu maximieren.