Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #293585704 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist eine anspruchsvolle Photoresist-Ausrüstung zur präzisen Ausrichtung und Musterung von Wafern. Es bietet eine Plattform, die entwickelt wurde, um die bewährten Technologien von TEL Limited (TOKYO ELECTRON) in den Bereichen Photolithographie, Resist-Verarbeitung und Wafer-Handling voll auszuschöpfen. TEL Clean Track Mark 8 ist ideal für die Lithographie in Photolackanwendungen. Es ermöglicht eine präzise Positionierung der Masken, eine hervorragende Ausrichtungsgenauigkeit und eine effektive Musterübertragung auf den Wafer. Das System umfasst einen selbsttätigen Mini-Bereich für die CCD-Registrierung; eine ultrakompakte Ausrichtstufe; eine Vollfeldexpositionseinheit; eine Wafer-Ladestation; und integrierte Wafer-Handhabung. Diese Komponenten schaffen eine Lithographielösung, die auf verbesserte Auflösung, Wiederholbarkeit und minimale Verzerrung ausgelegt ist. Der Mini-Bereich verfügt über eine automatische, zerstörungsfreie Registrierung von Masken und Wafern, was die Belichtungszeit reduziert und die Genauigkeit der Ausrichtung verbessert. Das fortschrittliche Design des OptiScope erhöht den Durchsatz und die Genauigkeit der Ausrichtung und Registrierung, indem es nur einen Scan verwendet, die Belichtungszeit reduziert und die Ausrichtungsgenauigkeit bei Bedarf erhöht. Der OptiScope umfasst auch Echtzeit-Displays der Ausrichtungs- und Maskenregistrierungsinformationen, so dass das Personal seine Produkte schnell und einfach anpassen kann. Die Ultra Compact Alignment Stage sorgt für exquisite Genauigkeit und homogene Ausrichtung durch den Einsatz fortschrittlicher Motorisierungs- und mechanischer Konstruktionstechnologien. Es bietet Stabilität, Präzision und Geschwindigkeit und verfügt über eine eingebettete, einteilige optobearbeitende Beleuchtungsmaschine. Die resultierende Leistung garantiert eine ausgezeichnete Mustergenauigkeit nach der Belichtung. Das Full-Field Exposure Tool bietet ausgezeichnete Musterübertragungsgenauigkeit und -durchsatz. Es verwendet fortschrittliche Laser-Musterverfahren und einen elektronischen Verschluss, der eine verbesserte Auflösung von 5um und eine Kapazität von bis zu 5 Wafern pro Stunde bietet. Und die Wafer Load Station ermöglicht einfaches Be- und Entladen, verkürzt die Belichtungszeit und erhöht den Durchsatz. Das integrierte Wafer Handling-Asset wurde entwickelt, um den Hot-Swapping und integrierten Zugriff zu ermöglichen, der für eine leistungsstarke Produktionsumgebung erforderlich ist. Die Wafer-Laststation ist in der Lage, bis zu vier Wafer-Einführungssysteme parallel anzuschließen, was ein effizientes Be- und Entladen von Wafern ermöglicht. Zusammenfassend bietet das TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 Photoresist Modell eine umfassende und zuverlässige Plattform für eine effiziente Produktion. Es bietet eine fortschrittliche Ausrichtung und Expositionsmanagement, um eine präzise Mustertransfer von Wafern. Damit ist sie eine ideale Lösung für die Herstellung hochpräziser Photolackanwendungen.