Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #293628320 zu verkaufen

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ID: 293628320
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Resist coater / Developer system, 8" Single block Controller type: NEC-PC-9800 Wafer direction: Right to left AC Power box TCU: (2) Electronic controllers Hard Disk Drive (HDD) not included AC power cable: 1 Phase 2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung für hohe Präzision und feine Musterung. Das Photolacksystem ist so ausgelegt, dass es ein feines, gleichmäßiges Muster auf einem Substrat, wie einem Siliziumwafer, freilegt und bei der Herstellung innovativer Halbleiterbauelemente verwendet wird. Diese Einheit verwendet einen eintauchbaren Spurscanner, der aus einem Hauptkörper, einem Projektionsobjektiv und Antriebssystemen besteht. Der Tauchspurscanner ist mit einer Spursteuerung verbunden, die die verschiedenen Parameter für die Maschine steuert. Das Projektionsobjektiv ist mit dem Spurscanner verbunden und in eine flüssige Photoresistlösung eingetaucht. Das Projektionsobjektiv dient dazu, Licht auf den Fotolack zu fokussieren, und die Antriebssysteme ermöglichen eine genaue x-, y- und z-Positionierung des Musters auf dem Substrat. Das Werkzeug kann gleichmäßige, hochpräzise Muster mit einer Präzision von bis zu 0,1 Mikrometern und einer Strukturierung von bis zu 0,2 Mikrometern erzeugen. Der Photolack sorgt auch für Stabilität, d.h. er wird nicht durch Temperatur, Druck oder Alter beeinflusst. Dies macht es ideal für den Einsatz bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen, da hohe Präzision, genaue Muster erforderlich sind. TEL Clean Track Mark 8 Asset ist ideal für diejenigen, die eine zuverlässige, genaue Art und Weise der Strukturierung dünne Resistschichten auf ihren Substraten benötigen. Das Modell kann einheitliche, hochpräzise Muster mit einer Genauigkeit von bis zu 0,1 Mikrometern liefern, und der verwendete Photolack bleibt von Alter, Temperatur und Druck unberührt. Schließlich kann diese Ausrüstung auch zur Herstellung von dreidimensionalen Mustern hoher Dichte verwendet werden, wodurch innovative Geräte mit größerer Präzision und Genauigkeit hergestellt werden können.
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