Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9128615 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist eine Photolackausrüstung für die Halbleiterverarbeitung im Nanometermaßstab. Dieses System nutzt fortschrittliche Trockenätz- und Photoresist-Co-Verarbeitungstechnologie, um Komponenten mit überlegener Oberflächenglätte, höherer Ausbeute und geringeren Partikelzahlen zu liefern. Das Gerät ist in der Lage, mit minimalen Reinigungsschritten zu strukturieren und zu ätzen, was eine schnelle, gleichmäßige und zuverlässige Strukturierung mit minimierten dielektrischen Schäden ermöglicht und gleichzeitig die Ätzparameter mit hoher Präzision steuert. TEL Clean Track Mark 8 bietet Platz für mehrere Fotoresist-Rezepte, einschließlich Dual-Layer und Single-Layer-Musterung. Es kann sowohl positive als auch negative Photoresists mit VUV/FUV Photomasken Ausrichtung verarbeiten. Die Maschine ist für unübertroffene Leistung und Gleichmäßigkeit ausgelegt und bietet hohe produktive Durchsätze auf einer Vielzahl von Substraten und dünnen Filmen. Das Werkzeug basiert auf der Spin-Etch-Technologie, die eine rotierende Elektrode verwendet, um den Wafer verfolgend zu ätzen. Die rotierende Elektrode erzeugt weiträumig eine gleichmäßige Ätzrate und ist in der Lage, ein gleichmäßiges Niederdruckplasma über einen weiten Leistungsbereich zu erzeugen und zu steuern. Diese Technologie erhöht die Gleichmäßigkeit und reduziert Ladungsschäden durch die thermische Behandlung des Wafers. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 unterstützt eine hohe Produktivität und effiziente Verarbeitung sowie eine verbesserte Ätzrate für kritische Strukturen. Es verwendet ein Inline-Ätzmodul, um die Ätzzeit zu reduzieren, präzisere Abmessungen und schnellere Bearbeitungszeiten zu ermöglichen. Darüber hinaus bietet die Anlage eine präzise Temperaturregelung und eine präzise Ätzzeitkontrolle. Es verfügt außerdem über eine Belastungsstufe mit variablem Winkel, um die Zeit beim Be- und Entladen von Substraten weiter zu reduzieren. Die Systeme bieten eine verbesserte Overlay-Genauigkeit und erhöhte Effizienz bei der Photolackentfernung. Dies wird durch das Aufbringen und Entfernen von Photoresists über verschiedene Winkel erreicht, wodurch getrennte Muster unterschiedlicher Größen und Formen erzeugt werden können. Das Modell verfügt über eine In-situ-Waschfähigkeit, die dabei helfen kann, Restpartikel und Partikel zu entfernen, die während des Ätzprozesses an der Oberfläche haften. Zusammenfassend ist Clean Track Mark 8 eine Photolackausrüstung, die für den Einsatz in der Halbleiterverarbeitung entwickelt wurde. Das System ist in der Lage, Komponenten im Nanometermaßstab mit minimalen Reinigungsschritten zu strukturieren und zu ätzen und nutzt eine Vielzahl fortschrittlicher Technologien wie Spin Etch, Inline-Ätzmodul, präzise Temperaturregelung und präzise Zeitkontrolle für verbesserte Ausbeute und niedrigere Partikelzahlen. Das Gerät bietet auch verbesserte Overlay-Genauigkeit und erhöhte Effizienz bei der Photolackentfernung.