Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9158015 zu verkaufen
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ID: 9158015
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
(2) Coater / (3) Developer system, 8"
Dual block
Silicon substrate wafer
Wafer flow: Right to left
CSB Unit at right
Interface station unit at left
(2) Process blocks:
Cassette station block (CSB):
FC-9801F Controller
Stage / Indexer:
Non SMIF / Open uni-cassette
Cassette station (CS)
Cassette station arm (CSA)
PSB / Process station block (Spin units):
2-1 Standard photo resist coat unit:
(3) Photo resist dispense nozzles
(3) IWAKI Bellows pumps
Solvent pre-wet reduced resist coat (RRC) nozzle
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Dual back rinse nozzles
Photo resist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
(6) Photo resist bottles in external chemical supply systems
Photo resist auto exchange
Auto dummy dispense system
2-2 Bottom layer coat (BCT) unit:
(3) Bottom layer coat (BCT) dispense nozzles
(3) IWAKI Bellows photo resist pumps
Solvent pre-wet reduced resist coat (RRC) nozzle
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Dual back rinse nozzle
Photo resist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Photo resist bottle: (6) External photo resist supply system
Photo resist auto exchange
Auto dummy dispense system
Process block robotics arm (PRA)
Adhesion unit (AD)
(5) Hot plate oven units
(2) Dehydration hot plate (DHP) oven units
(2) Cool plate units
Process station block (Spin units):
3-2, 3-3, 3-4 Develop units:
(4) Stream nozzles at (4) Stream nozzle blocks
Rinse nozzles:
(2) Stream type
Spray type
Dual back rinse nozzles
Develop temperature control
Motor flange temperature control
Drain type: Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispense system
Process block robotics (PRA) Arm
Adhesion unit
(3) Hot plate oven units
Dehydration hot plate (DHP) oven unit
(3) Air-purge hot plate (AHP) oven units
(3) Cool plate units
Extension unit
Wafer edge exposure (WEE) unit
Interface station block (IFB):
Interface arm (IFA)
Interface for ASML PAS Series Stepper
(2) Buffers
Pick-up system
Interface cool
Extension stage
Wafer stage
Temperature and humidity controller:
TEAM KOREA TK-TH8T4
2-Cup control capacity for 2 Coat units
External chemical supply system:
Solvent supply system:
Solvent chemical type
CSS Bulk-fill to auto supply system
With (2) Buffer tanks: Auto switch-off / Exchange
Develop supply system:
Develop solution chemical type
CSS Bulk-fill to auto supply system
With (2) Buffer tanks: Auto switch-off / Exchange
Photo resist supply system for 2-1 Coat and 2-2 BCT
6-Bottles of manual supply type
Auto exchange system
HMDS Supply system:
HMDS Chemical type
CSS Bulk-fill to auto supply system with bubbling jar
HMDS Supply system
Themo controller:
External chemical supply system: (2) TEL / TOKYO ELECTRON SMC Multi controller
MAX 16 Channel capacity: 12-Channels for (2) Process
SMC Multi thermo controllers:
(6) SMC Circulators: Chilling channels
2-1 COT Unit
2-2 BCT Unit
Stream nozzle block:
Block 1 and 3: 3-2, 3-3 DEV
Block 2 and 4: 3-4 DEV
(5) Motor flanges
(6) SMC Thermo controllers: Chilling channels
2-9 COL
2-10 COL
3-7 COL
3-11 COL
3-15 COL
4-4 I/F COL
(4) Robots:
CS Arm
(2) Main arm robots
Interface arm
Power transformer AC cabinet: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz
1997 vintage.
TEL (TOKYO ELECTRON) TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die bei der Herstellung von Leiterplatten verwendet wird. Das System ist in der Lage, eine Vielzahl von Photoresist-Verfahren einschließlich Spin-coating, Weichbacken, Maskenausrichtung, Sprühbeschichtung und Hartbacken. Die saubere Spur ermöglicht wiederholbare und genaue Ergebnisse, die zu hohen Erträgen beitragen. TEL Clean Track Mark 8 wurde entwickelt, um Reinraum-Ausfallzeiten zu reduzieren und die Produktivität zu verbessern. Es verfügt über ein langlebiges und zuverlässiges antistatisches Chassis und eine „No-ccd“ -Ausrichteinheit, die die Ausrichtzeit halbiert. Darüber hinaus ist die Maschine mit einem Touch-Panel-LCD-Display ausgestattet, das das Navigieren der Funktionen des Werkzeugs erleichtert. Die Anlage umfasst zwei einzigartige und fortschrittliche Backtechnologien für verbesserte Sauberkeit und Prozessgenauigkeit. Die erste ist die geteilte Backe, die den Backprozess in zwei Teile trennt, um das Risiko von Verunreinigungen zu verringern und die Temperaturstabilität zu optimieren. Die zweite ist die Hybridbacke, die den Wafer vollständig backen kann, ohne das Substrat in Aufgaben zu trennen. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 verwendet speziell entwickelte Düsen und Reiniger, die Resistrückstände schnell entfernen können, was zu saubereren Wafern führt und gleichzeitig die chemische Abfallproduktion erheblich reduziert. Spezielle Beschichtungsfunktionen reduzieren chemische Nutzung und Reinigungszeit um bis zu 70%, Keramikkopfdüsen helfen, die Gesamtpartikelanzahl zu reduzieren, und hochpräzises berührungsloses Tracking hilft, die Ausrichtungsgenauigkeit zu verbessern. Darüber hinaus ist das Modell nachrüstbar, was eine Kompatibilität mit einer Vielzahl von Photolacksystemen ermöglicht. Insgesamt verwendet Clean Track Mark 8 fortschrittliche Technologien, um Anwendern wiederholbare und erstklassige Ergebnisse zu ermöglichen und gleichzeitig den Einsatz von Chemikalien, Energie und Ausfallzeiten zu minimieren. Es wurde entwickelt, um eine effiziente und effektive Photoresist-Ausrüstung zu sein, die Anwendern hilft, maximale Erträge zu erzielen und gleichzeitig eine kostengünstige Produktion zu erhalten.
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