Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9165442 zu verkaufen
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ID: 9165442
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
Single block
Open cassette
Interface for NIKON NSR 2205 EX14C
Silicon substrate wafer
Wafer flow: Left to right
CSB Unit at right
Interface station unit at left
(2) Process blocks: Single block system
Cassette station block (CSB):
FC-9821KE Controller
Stage / Indexer:
Non SMIF / Open uni-cassette
Cassette station (CS)
Cassette station arm (CSA)
Process station block (Spin units):
2-1 Standard photo resist coat unit:
(3) Photo resist dispense nozzles
(3) IWAKI Bellows pumps
Solvent pre-wet reduced resist coat (RRC) nozzle
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Dual back rinse nozzles
Photo resist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Auto dummy dispense system installed
Photo resist bottle: (6) External chemical supply system
2-2 Anti-reflection coat unit:
(3) Photo resist dispense nozzles
(3) IWAKI Bellows photo resist pumps
Solvent pre-wet reduced resist coat (RRC) nozzle
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Dual back rinse nozzles
Photo resist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Auto dummy dispense system installed
Photo resist bottle: (6) External chemical supply system
2-3 and 2-4 Develop units:
(4) Stream nozzle blocks
(4) Stream nozzles
(2) Rinse nozzles: Stream type
Dual back rinse nozzles
Develop temperature control
Motor flange temperature control
Drain type: Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispense system
Process block robotics arm (PRA)
Adhesion unit
(10) Hot plate oven units
(2) Air-purge hot plate (AHP) oven units
(7) Cool plate units
Wafer edge exposure (WEE) unit
Interface station block (IFB):
Interface arm (IFA)
(2) Buffers
Pick-up system
Interface cool
Extension stage
Wafer stage
Temperature and humidity controller:
SHINWA T&H-CPC
2-Cup control capacity for (2) Coat units
External chemical supply system:
Solvent supply system for (2-1) COT and (2-2) ARC:
Solvent chemical type
Bulk-fill central chemical supply (CSS) type
With (2) 3-Liter teflon buffer tanks
Develop supply system for 2-3 and 2-4 Develop units:
Develop solution chemical type
Bulk-fill central chemical supply (CSS) type
With (2) 3-Liter teflon buffer tanks
(2) Photo resist supply systems:
6-Bottles of manual supply type
Auto switch-off / Exchange installed
HMDS Supply system:
HMDS Chemical type
Bulk-fill central chemical supply (CSS) type
With 3-Liter teflon buffer tanks for AD unit
External chemical supply system / Cabinet: (2) SMC Multi thermo controller units
SMC Circulator pumps and thermo controller
With 7-Channels:
2-1 COT
2-2 ARC
Motor flanges: 2-1 COT and 2-2 ARC
2-8 COL
2-12 COL
2-16 COL
2-19 COL
SMC Circulator pumps and thermo controller
With 7-Channels:
1 and 3 Stream nozzle blocks: 2-3
2 and 4 Stream nozzle blocks: 2-4
(2) Motor flanges at 2-3 and 2-4 DEV
2-20 COL
2-23 COL
2-24 COL
3-4 I/F COL
(3) Robots:
CS Arm
Main arm robots
Interface arm
Power transformer AC cabinet: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz
1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist ein Photoresist-System, das entwickelt wurde, um die Anforderungen der heutigen ultra-hohen Zuverlässigkeit und hochpräzisen Leiterplatten zu erfüllen. Das Mark 8 verwendet eine fortschrittliche Ultraschall-Kontaktreinigungsmethode (UCC), die mit einem zweistufigen „Airblow Cleaning and Sweep Cleaning“ -Verfahren ausgestattet ist. Der Airblow Reinigungsprozess verwendet einen schnellen Luftstrom, um Staub, Schmutz und Kontaminationen bis zu einer bestimmten Größe zu entfernen. Es nutzt Zwangsluftstrom, um die Oberfläche zu reinigen, ohne Beschädigungen oder Belastungen des Substrats zu verursachen. Der Sweep-Reinigungsprozess verwendet eine hin- und hergehende Reinigungsmethode mit einer rotierenden Bürste. Dadurch werden die nach dem Airblow-Reinigungsprozess verbleibenden kleinen Verunreinigungen entfernt. Die Mark 8 enthält auch mehrere zusätzliche Funktionen für verbesserte Leistung und Ausgabe. Dazu gehören die Verwendung von Specific Density Cleaner (SDC), CCD-Kamera für Defektinspektion, Temperaturkontrolle von Board und Kammern, Hardware- und Software-Alarmüberwachung, Shimura/Kitta-Defektinspektion, automatische chemische Niveaukontrolle und Rollen-/Gurttyp-Viskositätskontrolle. Der Mark 8 verfügt zudem über eine zusätzliche Flexibilität mit einer anpassbaren Platinenbasisstufe, die es ermöglicht, sowohl Sensorsubstrate mit hoher und niedriger Dehnung als auch standardisierte und nicht standardisierte Substrate zu verarbeiten. Zusätzlich ist ein Höhenerfassungssensor in das Werkzeug integriert, wodurch die Gefahr einer Partikelverschmutzung bei der Verarbeitung und Leistungssteigerung reduziert wird. In der heutigen Zeit der Hochgenauigkeit Leiterplatten, TEL Clean Track Mark 8 Photoresist-System bietet die Leistung und Zuverlässigkeit der Kunden Bedarf. Es ist fortschrittliche UCC-Funktionen kombiniert mit mehreren zusätzlichen Funktionen helfen, Kunden mit durchweg sauberen, hochwertigen Substraten zu versorgen. Mit der Vielseitigkeit und den fortschrittlichen Funktionen des Mark 8 wurde es entwickelt, um die anspruchsvollsten Anforderungen zu erfüllen und eine unübertroffene Leistung zu gewährleisten.
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