Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9238274 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung für die Herstellung und Inspektion von Dünnschichtgeräten mit hohem Volumen. Es ist in der Lage, präzise und präzise Handhabung von chemischen basierten Photoresist-Materialien für Wafer-Lithographie-Anwendungen. Der Mark 8 verfügt über ein vollautomatisiertes Sprüh- und Waferbearbeitungssystem, das präzise Mess- und Steuerungen zur Erzeugung präziser Oberflächenbeschichtungen und exponierten Resist auf Wafern verwendet. Die Mark 8 ist eine Single-Source-Photoresist-Einheit, die es ermöglicht, den gesamten Photoresist-Fluss- und Substrataufbereitungsprozess durchzuführen. Dazu gehören Vorreinigung, Waferbearbeitung und Abscheidung von Photoresistmaterialien. Seine erweiterte Such- und Ausrichtungsmaschine soll sicherstellen, dass sich die Photomasken exakt an den jeweiligen Mustern auf der Photolackschicht ausrichten. Darüber hinaus können seine optischen Zonendetektionssysteme subtile Fehler in der Struktur der Photoresistfilme erkennen, wodurch die Qualität und Genauigkeit des Prozesses gewährleistet ist. Die fortschrittliche Technologie des Mark 8 sorgt dafür, dass es mehrere Dünnschicht-Photoresist-Materialien wie polymere Resistfolien, Polyimidfolien und Photoresist-Tinten präzise handhaben kann. Dadurch kann das Werkzeug mit Leichtigkeit komplexe photolithographische Aufgaben wie Ätzen, Abscheiden, Formen und Lithoätzen ausführen. Darüber hinaus umfasst der Mark 8 auch mehrere Waferbedienungen und Funktionen, die zusätzliche Flexibilität und Vielseitigkeit ermöglichen. Die Anlage eignet sich für eine breite Palette von Mustern, von Nanometer- bis Mikrometerwaagen. Um Präzision und Wiederholbarkeit von Mustern zu gewährleisten, verwendet der Mark 8 fortschrittliche Thermomanagement-Technologie und ein sehr Niederspannungs-Antriebsmodell, das das Risiko einer möglichen elektrischen Beschädigung der Waferoberfläche vermeidet. Zusätzlich kann die Waferoberfläche durch die Temperaturregelung der Heizplatten des Mark 8 geregelt werden, was seine Genauigkeit und Zuverlässigkeit weiter erhöht. Insgesamt ist TEL Clean Track Mark 8 eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die für die präzise und präzise Handhabung von Dünnschicht-Fotoresist-Materialien für eine breite Palette von Lithographieanwendungen entwickelt wurde. Die automatisierten Prozesse und das präzise Wafer-Handling sorgen dafür, dass genaue und wiederholbare Muster für Wafer im Mikro- und Nanometermaßstab erreicht werden können.