Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9250393 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Erstellung photolithographischer Merkmale für Halbleiterbauelemente, die bei der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet werden. Das System verwendet zwei Lichtquellen, um Photolack, eine fokussierte Lichtquelle und eine Abtastquelle zu mustern. Die Fokuslichtquelle wird verwendet, um eine Schicht des Musters zu erzeugen, während die Abtastquelle verwendet wird, um aufeinanderfolgende Schichten des Photolackmusters zu erzeugen. Die Fokuslichtquelle besteht aus einem Laserstrahl, der durch eine Reihe von Linsen auf die Photolackschicht fokussiert wird. Dieser fokussierte Strahl versorgt den Fotolack, wodurch er vernetzt und ein Muster bildet. Das Muster wird dann auf die Photolackschicht übertragen und eine Reihe von Mustertechniken können verwendet werden, um unterschiedliche Ergebnisse zu erzielen. Die Abtastlaserquelle dient zur Strukturierung des Photolacks. Der Laserstrahl wird auf den Photolack fokussiert und in einem Rastermuster über die Photolackschicht gebrannt. Dieses Zündmuster wird dann für jede Schicht wiederholt, was zu einem Muster unterschiedlicher Komplexität führt. Mit dem Laserstrahl wird auch der überschüssige Photolack weggeätzt, wobei das gewünschte Muster auf dem Substrat verbleibt. TEL Clean Track Mark 8-Einheit ist in der Lage, Muster bis zu 0,13 Mikrometer in der Größe zu produzieren, so dass es in der Lage ist, feine Muster zu produzieren, die von keiner anderen Photoresist-Maschine erreicht werden können. Das Tool ist auch weniger anfällig für Fehlzündungen und Fehler als andere Photolacksysteme, so dass es eine zuverlässige Wahl für die Erstellung von Halbleiterbauelementen. Darüber hinaus hat das Asset eine kürzere Bearbeitungszeit als andere Systeme, was es zu einer effizienteren Wahl für Hersteller macht. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist ein Photoresist-Modell, das sehr zuverlässig und effizient ist und Muster bis zu einer Größe von 0,13 Mikrometern erzeugen kann. Die Ausrüstung wird verwendet, um photolithographische Merkmale für Halbleiterbauelemente zu schaffen, die bei der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet werden. Das System verwendet zwei Lichtquellen - eine Fokuslichtquelle und eine Abtastquelle -, um den Fotolack zu mustern, was eine hohe Präzision und Genauigkeit ermöglicht. Das Gerät ist weniger anfällig für Fehlzündungen und Fehler als andere Systeme, was es zu einer idealen Lösung für Hersteller macht.