Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9250394 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 Photoresist Equipment ist ein leistungsstarkes, kostengünstiges Werkzeug für Halbleiterprozesse. Es wird verwendet, um Muster von Photolack, eine Flüssigkeit, die während der Photolithographie als Ätzmaske wirkt, auf Substrate wie Wafer, Leiterplatten und andere Materialien aufzubringen. Durch die Belichtung des Substrats mit einem Photolackmuster ermöglicht TEL Clean Track Mark 8 die Bildung von Mikrostrukturen wie ICs, Transistoren, Kondensatoren und optoelektronischen Bauelementen. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 wurde entwickelt, um eine hohe Präzision im Layout mit Substratausrichtung und Belichtung zu bieten. Es verfügt über eine skalierbare Systemarchitektur, bestehend aus einer Photo Exposure Unit, Resist Coating Unit, Underside Plasma Cleaner, Resist Stripper und UPS Belichtungsplatte, die alle an einen PC angeschlossen sind. Das Gerät ist mit einem integrierten Mustergenerator und einer Belichtungsquelle und einer automatischen Lade-/Entladefähigkeit für eine schnelle Geräteproduktion ausgestattet. Die Maschine ist in der Lage, eine Linienbreitengenauigkeit von 1,0 μ m oder besser und eine Messgenauigkeit von 0,05 μ m oder besser zu erreichen. Es ist mit einem fortschrittlichen fotooptischen Ausrichtungswerkzeug ausgestattet, das das Substrat auf der Gleisbühne automatisch auf eine Toleranz von 0,05 μ m erkennen, ausrichten und einrichten kann. Es wird auch eine 8-Zoll-Hochstrom-E-Strahlquelle verwendet, mit der sehr feine und dichte Belichtungsmuster erzeugt werden können. Darüber hinaus bietet das High-End-Support-Paket Clean Track eine Reihe von Musterkorrektur- und Designoptimierungswerkzeugen, die eine optimale Leistung der Wafer und Substrate gewährleisten. Clean Track Mark 8 ist ideal für High-Mix/Low-Volume-Operationen und bietet Flexibilität und Kosteneinsparungen bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung eines leistungsstarken Niveaus. Es kann auch Prozesszeiten reduzieren, die Wiederholbarkeit des Prozesses optimieren und fortschrittliche Lithographie mit erhöhter Genauigkeit herstellen. Die Anlage ist vollständig programmierbar und kompatibel mit verschiedenen Resist-Typen, so dass es eine große Auswahl für die Produktion von mikroelektronischen Geräten.