Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9250397 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 Photoresist-Ausrüstung ist entworfen, um kleinere, komplexere integrierte Schaltungsentwürfe zu ermöglichen. Es ermöglicht Designern, detaillierte Miniaturbilder oder Muster auf Halbleitersubstraten zu erstellen. TEL Clean Track Mark 8 verfügt über die FLEXI-DEVELOP (TM) -Technologie, ein proprietärer Entwicklungsprozess, der von TEL entwickelt wurde, um eine optimale Konturdefinition zu gewährleisten. Mit Hilfe der FLEXI-DEVELOP (TM) -Technologie belichtet TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ein Bild auf einer Photolackschicht auf einem Halbleitersubstrat durch photolithographische Techniken. Photolithographie ist ein Verfahren, bei dem ultraviolettes Licht verwendet wird, um ein Moiré-Muster von Bildern auf der Photolackschicht zu erzeugen. Das Licht wird dann durch eine Photomaske mit einem Muster geleitet, um die Photolackschicht zu belichten. Nach der Belichtung wird die Resistschicht entsprechend den vorgegebenen Desghn-Parametern entwickelt. Das resultierende Bild hat eine extrem hohe Auflösung und ermöglicht das genaue Ätzen von Objekten auf das Substrat. Es ist auch entworfen, um überlegene Prozesssteuerung und einheitliche konforme Nassentwicklung zu bieten. Dies ermöglicht eine hochzuverlässige Produktion über verschiedene Prozessanforderungen hinweg. Clean Track Mark 8 verfügt auch über umfangreiche Prozesssteuerungsfunktionen. Es hat einen fortschrittlichen Auto-Laufzeit-Manager, um die Temperatur zu steuern, Belichtungsrate zu widerstehen und nach der Entwicklung Reinigung. Das System verfügt auch über ein integriertes Messtechnik-Paket, um die Resistfunktionen kontinuierlich zu überwachen, um die Genauigkeit zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt das Gerät über die Leistung, Rezepte schnell und genau zu ändern, um Änderungen in den Prozessen gerecht zu werden. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 kann für eine Vielzahl von Operationen innerhalb des Halbleiterprozesses wie Speicherchips, Logikchips und CMOS-Bildsensoren verwendet werden. Es eignet sich gut für Hochleistungs-Ultradünn-Anwendungen und wird in verschiedenen Knoten der Prozesstechnologie eingesetzt. Es hat die Fähigkeit, mehrere Musteranwendungen zu unterstützen und verfügt über variable Geschwindigkeitsregelmechanismen, um die Prozesse an die individuellen Bedürfnisse anzupassen. Insgesamt bietet die Photoresist-Maschine TEL Clean Track Mark 8 eine fortschrittliche Designlösung für die Halbleiterverarbeitung in vielen Branchen. Es bietet zuverlässige und genaue Bilder, Prozesskontrollfähigkeit und Rezeptflexibilität, um eine optimale Geräteleistung zu gewährleisten.