Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9266470 zu verkaufen
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ID: 9266470
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1996
(1) Coater / (2) Developer system, 6"
Dual block
1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung für fortgeschrittene Photolithographie-Operationen auf einem Halbleiterwafer. Dieses System wurde entwickelt, um die aktuellen Standards der Produktionskapazitäten zu übertreffen und gleichbleibend hochwertige Photolithographie-Operationen zu erreichen. TEL Clean Track Mark 8 verfügt über eine erweiterte Bildaufnahmefähigkeit, die eine hochauflösende Abbildung selbst der kleinsten und komplexesten Fotolithographiemasken ermöglicht. Dieses Gerät wurde für die Integration in bestehende TEL-Systeme entwickelt, um Zykluszeiten und Wartungsanforderungen drastisch zu reduzieren, Kosten zu senken und den Kundennutzen zu steigern. Die Photoresist-Maschine verfügt auch über ein hochentwickeltes Spiegelwerkzeug für beispiellose Fotoresist-Bildgebung sowie eine patentierte motorisierte Bühnenanlage, die eine präzise und einfache Bedienung des Wafers ermöglicht. Das Modell ist zudem mit einer starren Rahmenkonstruktion ausgestattet, die einen schnellen Austausch von Teilen und Komponenten für eine schnellere Wartung und Reparatur ermöglicht. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 bietet auch eine fortschrittliche Softwarearchitektur, die eine schnelle Integration neuer Technologien mit höchster Präzision und Effektivität ermöglicht. Das Gerät wird automatisiert und kontinuierlich auf Photoresistdicke und Widerstandsintegrität der Schicht überwacht, wodurch eine konsistente hochauflösende Bildgebung ohne Kompromisse bei der Geschwindigkeit oder Genauigkeit gewährleistet wird. Das System unterstützt auch eine Vielzahl von Photoresists, um eine Vielzahl von Prozessanforderungen zu erfüllen, einschließlich Deep-UV, ArF Immersion und Step-and-Scan. Darüber hinaus ermöglicht das fortschrittliche Design des Geräts ein hohes Maß an betrieblicher Flexibilität, so dass Benutzer an eine Vielzahl von Produktionsmaßstab und Substratmaterialien anpassen können. Das innovative Design sorgt zudem dafür, dass neuere Prozessparameter ohne Leistungseinbußen problemlos in die Maschine integriert werden können. Das Tool unterstützt eine Basis aus verschiedenen Funktionsblöcken, mit dediziertem Speicher und einem eingebetteten 32-Bit-Prozessor für maximale Flexibilität und Leistung. Zusammenfassend ist Clean Track Mark 8 ein fortschrittliches Photoresist-Asset, das entwickelt wurde, um die aktuellen Standards der Produktionskapazitäten zu übertreffen und zu übertreffen und gleichzeitig gleichbleibend hochwertige Photolithographie-Operationen zu erzielen. Dieses Modell bietet eine hochentwickelte Spiegelausrüstung, ein patentiertes motorisiertes Bühnensystem und eine automatisierte Softwarearchitektur, was zu reduzierten Zykluszeiten und Wartungsanforderungen führt. Darüber hinaus unterstützt das Gerät flexible Anpassungseinstellungen für eine Vielzahl von Fertigungswaagen und Substratmaterialien. Diese Eigenschaften, zusammen mit seiner robusten Konstruktion und Flexibilität, machen TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 eine ideale Wahl für fortgeschrittene Photolithographie-Operationen.
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