Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9269249 zu verkaufen

ID: 9269249
Weinlese: 1995
(2) Coater / (2) Developer system 1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist eine einzigartige Photolackausrüstung, die den Bedürfnissen des modernen Halbleiterherstellers gerecht wird. Dieses System wurde entwickelt, um Fotoresist aus Wafern abzuscheiden und zu streifen, um komplizierte Muster mit höchster Präzision und Genauigkeit zu erstellen. TEL Clean Track Mark 8 verwendet einen Elektronenstrahl, um Photoresist zu belichten und unlöslich zu machen, sowie einen chemischen Aschevorgang, um den Ätzvorgang abzuschließen. Diese Einheit kann Linienbreiten bis zu 0,35 µm genau ätzen, sowie Linienkanten, die Fasen und abgerundete Ecken sind. Die Maschine verfügt über automatisierte, programmierbare Resist-Dispense und Entfernungen, um eine genaue Abscheidung und Abisolierung von Photoresist zu gewährleisten. Um gleichmäßig dünne Resistschichten zu gewährleisten, ist die Clean Track Marks 8 mit einem automatischen Neigungsintervall-Werkzeug ausgestattet. Dieses Asset ermöglicht die Reproduzierbarkeit und Gleichmäßigkeit von Ausgabe- und Streifen auf Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll. Als einzigartiges Merkmal von TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 hilft das Vorhandensein einer Gasdusche, Rückstände, Partikel und andere Verunreinigungen von der Waferoberfläche fernzuhalten. Dieses Modell verfügt auch über eine Partikeldichtesteuerung Ausrüstung, die entworfen ist, um minimale Mengen von Partikeln auf der Substratoberfläche zu halten. Im Inneren des Systems ist der Widerstandsmechanismus aus Edelstahl gefertigt. Dies hilft, die Ansammlung von Resist zu vermeiden und verhindert, dass magnetische Partikel den Belichtungsprozess stören. Insgesamt wurde Clean Track Mark 8 mit höchster Liebe zum Detail und Zuverlässigkeit entworfen. Die Kombination aus überlegenem Vakuumarm und Wafer-Klemmdesign in Verbindung mit der automatischen Neigungsintervalleinheit schafft eine Fotolackmaschine, die die fortschrittlichsten, zuverlässigsten und präzisesten Ergebnisse für moderne Halbleiterherstellungsanforderungen bietet.
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