Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9314271 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist eine hochentwickelte Photoresist-Ausrüstung, die Anwendern eine hochpräzise Abscheidungs- und Abhebetechnologie bietet. Dieses hochmoderne System nutzt fortschrittliche chemische und photolithographische Verfahren, um gleichbleibend hochwertige Ergebnisse zu gewährleisten. Im Kern besteht TEL Clean Track Mark 8 aus einer Prozesskammer und einer Gewichtseinheit, mit der eine chemische Lösung, allgemein als Photoresist bekannt, auf ein Substrat abgegeben wird. Dieser Photolack ist lichtempfindlich und reagiert auf bestimmte Wellenlängen, so dass Benutzer selektiv und präzise Muster auf das Substrat ätzen können. Die Prozesskammer enthält mehrere einstellbare Komponenten, die es Anwendern ermöglichen, gewünschte Abscheide- und Abhebeparameter wie chemische Konzentration, Belichtungszeit, Backtemperatur und Abhebezeit auszuwählen. Sobald die chemische Abscheidung abgeschlossen ist, wird der Photolack Laserlicht einer bestimmten Wellenlänge ausgesetzt, wodurch er Muster auf dem Substrat ätzen kann. Mit den einstellbaren Parametern der Prozesskammer können Anwender die Tiefe des Ätzes und den Erfassungsbereich des Musters steuern. Nach Beendigung des Ätzvorgangs wird der Photolack durch einen Abhebevorgang entfernt, um das gewünschte Muster aufzudecken. Dieses Verfahren erfordert die Verwendung einer mobilen Plattform, die zwei Wagen enthält - einen über dem Substrat und den anderen über der Prozesskammer positioniert. Während des Abhebens greift der zweite Schlitten mit dem Photolack an und hebt ihn von dem Substrat ab, was das gewünschte Muster darunter offenbart. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 bietet dank seiner einstellbaren Parameter eine hohe Präzision und Flexibilität. Diese fortschrittliche Fotoresist-Maschine ermöglicht es Benutzern, detaillierte Muster mit Leichtigkeit zu erstellen und ihnen ein effizientes Mittel zur Schaffung von Präzisionsstrukturen zu bieten.