Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9372744 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8
ID: 9372744
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
(2) Coater / (2) Developer system, 8" Interface Single block ASML Stepper Wafer flow: Right to left 1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 (CTM-8) ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das für die Strukturierung in einem Lithographieprozess verwendet wird, was hilft, die komplizierten Designs zu schaffen, die die Grundlage vieler Elektronikprodukte bilden. Das CTM-8 System ermöglicht die schnelle und präzise Entwicklung von Mustern sowohl für die Massenproduktion als auch für die Prototypherstellung von Halbleiterchips. Die CTM-8 Einheit arbeitet mit einem Photolackmaterial namens Positive Resist SE 1455, um ein negatives Relief auf dem Substrat zu erzeugen. Zunächst wird das Substrat mit einer dünnen Schicht des Resistes beschichtet und dann durch eine Maske, die ein Musterbild auf dem Substrat bildet, ultraviolettem Licht ausgesetzt. Die CTM-8 Maschine ermöglicht eine präzise und wiederholbare Belichtung des Substrats mit ultraviolettem Licht, um eine genaue Musterübertragung zu gewährleisten. Das Tool ist mit einer APDM-Software (Automatic Process and Data Monitoring) ausgestattet, die eine verbesserte Kontrolle des Druckprozesses und der Reproduzierbarkeit von Mustern ermöglicht. Der Fotolack selbst ist sowohl auf die Linienbreite als auch auf die Platzierungsgenauigkeit der Kanten empfindlich und muss während der Entwicklung erwärmt werden, um eine ordnungsgemäße Musterübertragung zu gewährleisten. Das CTM-8 Asset verfügt über eine integrierte Widerstandsheizung und ein Verschlussmodell, das den Resist automatisch für konsistentes Ätzen erwärmt und die optische Transparenz der Schicht optimiert. Die CTM-8 Ausrüstung verfügt auch über ein modernes Vakuumsystem mit einer mehrstufigen Korrosionsschutzeinheit, um die Genauigkeit der Musterübertragung zu verbessern, zu verhindern, dass sich Staubpartikel auf dem Substrat absetzen und die Wiederholbarkeit des Prozesses zu verbessern. Schließlich kann die CTM-8 Maschine über eine umfassende Benutzeroberfläche einfach kalibriert und überwacht werden. Dadurch können sowohl erfahrene als auch weniger erfahrene Anwender schnell die Kontrolle über die Parameter des Tools erlangen und für alle vorgeschlagenen Projekte genaue Ergebnisse sicherstellen. Mit seinen fortschrittlichen Software- und Hardwarefunktionen ist CTM-8 ein idealer Photoresist für die schnelle und effiziente Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente.
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