Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9375656 zu verkaufen
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ID: 9375656
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
System, 8"
SMC INR-244-110D Thermo controller
(3) SMC INR-244-112A Chillers
(5) SMC INR-244-113B Thermo controllers
SHINWA T&H-CPC-1-NL THC Unit
Wafer transfer robot
Process robot
(5) Ovens
(5) Coolers
(2) Coater units
DEV Unit
Adhesion unit
Board set
PC
Chemical tank
Mass flow control
AC Rack
(2) UPS
SMIF Module:
INTERNOVA INC ICLS-RTX
Main controller
Driver part
1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung für erstklassige Lithographieanwendungen. Dieses System verwendet eine neue Art von Resist-Technologie namens kationischer Resist und bietet ein hohes Maß an Genauigkeit und Präzision, mit beispielloser Fähigkeit zur Überwachung, Trimmung und Kontrolle der Belichtung des Lithographieprozesses. Das Gerät besteht aus vier Hauptkomponenten: der Zentrale, der Wafer-Belichtungs-/Verarbeitungseinheit, dem Aligner und der Stromquelle. Die Zentrale ermöglicht es dem Benutzer, Belichtungsparameter einzustellen, Belichtungspegel zu überwachen und die Bewegung des Ausrichters zu steuern. Der Benutzer kann auch mit der Maschine kommunizieren und Belichtungsprozessparameter ändern. Die Wafer-Belichtungs-/Verarbeitungseinheit umfasst einen Quarztisch, der in zwei Richtungen beweglich ist, sowie eine Kammer, die es dem Benutzer ermöglicht, verschiedene Substrate und Resisttypen bei unterschiedlichen Temperaturen zu betreiben. Der Aligner wird verwendet, um die Ausrichtung des Wafers genau zu steuern und jeden Wafer dem richtigen Laserstrahl auszusetzen, um die gewünschten Prozessergebnisse zu erzielen. Das Werkzeug ist auch mit einer fortschrittlichen Stromquelle ausgestattet, um die Anwendung von hochpräzisen, wiederholbaren Belichtungen zu unterstützen. TEL Clean Track Mark 8 enthält eine Reihe von erweiterten Funktionen. Es ist mit einer fortschrittlichen Prozesskontrolle ausgestattet, die eine konsistente und wiederholbare Leistung mit verbesserter Prozessstabilität und Genauigkeit bietet. Dieses Modell ist auch in der Lage, die Prozessdaten zu überwachen und zu analysieren, um den lithographischen Prozess zu verbessern und bessere Ergebnisse zu erzielen. Die Wafer-Belichtungs-/Verarbeitungseinheit ist für eine verbesserte Gleichmäßigkeit ausgelegt und kann eine Vielzahl von Substraten und Resists aufnehmen. Das Gerät ist auch mit einer erweiterten grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet und bietet eine bequeme Möglichkeit, das System zu überwachen und zu steuern. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist ideal für Anwendungen wie fortschrittliche Halbleiterherstellung und mikroelektronische Geräteherstellung. Es bietet eine ultrapräzise optische Steuerung durch die Nutzung der Eigenschaften von kationischem Resist und bietet eine präzise Steuerung und Wiederholbarkeit der Belichtung. Durch die zuverlässige und effiziente Überwachung und Steuerung des Lithographieprozesses sorgt Clean Track Mark 8 für qualitativ hochwertigere Ergebnisse, die kürzere Entwicklungszeiten und eine schnellere Markteinführung ermöglichen.
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