Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9392817 zu verkaufen
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ID: 9392817
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
Dual blocks
Coater: (3) Nozzles
Developer: E2 Nozzle
Wafer flow: Right to left (CSB Unit right side and interface station left side)
Tank auto switch off / Exchange missing
Block 1:
FC-9821Ke Controller
Stage / Indexer: SMIF / Cassette station
Cassette Station Arm (CSA)
Block 2:
Normal photo resist coater 2-1, 2-2:
(2) Photoresist dispense nozzles per coat unit
(2) Photoresist dispense nozzles and 2-RRC Resist pump per coater
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR) for normal coater
Dual back rinse nozzle
Photoresist temperature control
Motor flange temperature control
Photoresist drain type: Direct gravity
Photoresist bottle: 2-Space
Photoresist auto exchange
Auto dummy dispense system
Cup type: PP Upper cup and inner cup
Auto damper: Cylinder
Block 3:
Developer 3-1, 3-2 Unit:
Single E2 nozzle
Dual top rinse nozzles
Back rinse nozzles
Developer temperature control
Motor flange temperature control
Drain type: Direct gravity
Auto damper
Auto dummy dispense system
Cup type: Stainless steel for upper and PP for inner
(2) Low temperature ovens (LHP)
(4) Cool plate units
SHINWA Temperature and Humidity Controller (THC): 2-CUP
External chemical supply system:
Section-1: Solvent supply system
Solvent chemical type:
Chemical Center Supply System (CCSS)
With (2) of 3-litres teflon buffer tank
Type: (2) Buffer tanks (3litre/Tank, teflon) (2) Coaters
Tank auto switch off / Exchange
Section 2: Develop:
Develop chemical type
Chemical Center Supply System (CCSS)
With (2) of 3-litres teflon buffer tank to cover (2) DEV Units
Tank auto switch-off / Exchange
HMDS Supply system for 2 AD Unit:
Chemical type
1/4-Gal bottle
With 1L Buffer tank per ADH
SMC Multi controller: Rear mail body
Power transformer AC cabinet : 208 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz
ASML
(6) Hot transfer plates: HP3-4 / HP3-5 / HP 3-7 / HP 3-8 / HP2-4 / HP 2-8
(5) Cold transfer plates: COL2-9 / COL2-10 / COL3-6 / COL3-9 / COL3-10
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Missing parts:
CSB Unit:
X, Y, Z Theta motor
Y, Z Motor driver
FFU
COAT 2-1:
EBR Cylinder
Spin chuck
RRC Pump
Spin motor driver
Spin connection board
VAC Sensor
(4) Solenoid valves
COAT 2-2:
EBR Cylinder
Spin chuck
RRC Pump
Spin motor driver
VAC Sensor
(11) Solenoid valves
DEV 3-1:
DEV Spin motor and driver
DI Rinse arm cylinder
Spin unit base assembly
DEV Cup
Spin chuck
Spin connection board
Solenoid valve mainfold
VAC Sensor
D.I Rinse flow meter
(4) Flow meter sensors
DEV 3-2:
DEV Spin motor and driver
DI Rinse arm cylinder
Spin unit base assembly
DEV Cup
Spin chuck
Spin connection board
VAC Sensor
IFB:
Arm assembly
(2) Trabot arms for ASML
Y, Z Motor driver
2-Block system:
FFU
Main arm assembly
Y, Z Motor driver
SIMF Card
TVME Card
(2) AD Units
HP Unit
Circulator pump
(10) DC Power fuses
3-Block system:
FFU
Main arm assembly
Y-Z Motor driver
TVME Card
(2) CP Units
(2) CPL Powers
(3) HP Units
Circulator pump
(10) DC Power fuses
WEE Lamp house
(2) Temperature and humidity controllers
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 ist eine automatisierte Photoresist-Ausrüstung für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente, entwickelt und hergestellt von TEL. Es ist ein integriertes Hochdurchsatzsystem, das einen konsistenten, qualitativ hochwertigen Produktionsprozess mit Verbesserungen in Geschwindigkeit und Genauigkeit bietet. Das Gerät ist mit robusten, effizienten Reinigungs- und Beschichtungstechnologien ausgestattet, die die Partikelerzeugung minimieren und Rückstände minimieren sollen. Der Kern der Maschine ist die Clean Track-Kammer, die entworfen ist, um Wafer an Ort und Stelle zu halten und die Wiederholbarkeit während des Herstellungsprozesses zu gewährleisten. Die Kammer nutzt fortschrittliche Kammerreinigungstechnologie und eine Kombination aus Plasmabehandlung, chemischer Reinigung und fortschrittlichen Beschichtungstechnologien, um Partikel und andere Rückstände zu reduzieren. Das Mark 8-Tool ist ferner mit einer Vielzahl automatisierter Funktionen ausgestattet, darunter automatische Substratübertragung und -handhabung, eine automatisierte Rezepturanlage, automatisierte Substratüberprüfung und automatische Datenerfassung jedes bearbeiteten Substrats. Das Modell ist in der Lage, verschiedene Substratgrößen, Substrattypen und Formen mit hoher Präzision zu verarbeiten. Das Gerät verfügt auch über ein modernes Düsendesign, um die optimale Beschichtung und das Sprühen des Fotolackmaterials zu erleichtern. Darüber hinaus ist es mit fortschrittlichen Partikeldetektionssystemen ausgestattet, um sicherzustellen, dass Substrate mit hohen Partikel- oder anderen Rückständen nicht weiterverarbeitet werden. TEL Clean Track Mark 8 bietet eine kostengünstige, qualitativ hochwertige Photolackverarbeitungslösung, die für eine Reihe von fortschrittlichen Geräteherstellungsprozessen geeignet ist. Der modulare Aufbau und die Komponenten ermöglichen Vielseitigkeit und Wirtschaftlichkeit. Fortschrittliche Gasfluss- und Feuchtigkeitskontrolle bieten die ideale Umgebung für die Photoresist-Beschichtung und automatisierte Substrathandhabung minimiert Verschmutzung. Das System ermöglicht auch die Prozessoptimierung durch Nachverfolgung von Variationen in der Substratverarbeitung und Aufzeichnung von Echtzeitdaten.
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