Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II #293672262 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II Photoresist Equipment ist ein erstklassiges Werkzeug für Präzisionssubstrate Reinraumprozesse. Dieses System ermöglicht schnelle, qualitativ hochwertige Fotoresist-Musterverfahren mit minimaler personeller Interaktion. Es verfügt über eine halbautomatische Spureinheit für mehrstufige Folienprozesse, die eine effiziente Substratverarbeitung ermöglicht. Die Maschine verfügt über mehrere Prozesskammern mit jeweils eigenem Betrieb. Der Prozeßablauf besteht aus Deglaze, Substratreinigung, Adhäsion, Weichbacken, Belichtung, Post-Exposure-Backen und Post-Exposure-Verarbeitung. Die Deglaze-Kammer ist dazu ausgelegt, Oberflächenverunreinigungen aus dem Substrat zu entfernen und für die Haftung vorzubereiten. Dies geschieht, indem man die Oberfläche einem energiereichen Vakuum unterwirft und dann das Substrat mit Argonplasma zerstäubt. Die Substratreinigungskammer verwendet ein patentiertes hydrophiles Lösungsmittelreinigungsverfahren, um organische Rückstände und hydrophobe Filme vom Substrat zu entfernen. Die Haftkammer ist ein chemisches Aufdampfverfahren, bei dem eine Monoschicht aus Siliziumorganosilan an die Waferoberfläche gebunden wird. Dadurch wird sichergestellt, dass nachfolgende Schichten einwandfrei mit dem Substrat verbunden sind. Die weiche Backkammer präpariert den Wafer weiter zur Weiterverarbeitung, indem sie ihn hohen Temperaturen unterwirft, um restliche Lösungsmittel zu verdampfen und die Oberflächenhaftung des Photoresists zu verbessern. In der Belichtungskammer wird die benötigte Photomaske auf den Wafer ausgerichtet und durch die Maske ein ultraviolettes Licht zur Kontaktbelichtung des Musters auf den Wafer gestrahlt. Anschließend wird in der Nachbelichtungsbackkammer ein Nachbelichtungsbacken durchgeführt, um den Photoresist auszuhärten und zu entwickeln. In der Nachbelichtungskammer wird der belichtete Wafer mit einem speziellen chemischen Verarbeitungsmittel behandelt, das das photolithographische Muster auf dem Substrat offenbart. TEL Clean Track Mark II Photoresist Tool ist auf Präzision und wiederholbare photolithographische Ergebnisse ausgelegt. Es ist ein zuverlässiges und präzises Werkzeug für hochwertige Reinraumbedienungen. Es ist ein hochproduktives und effizientes Gut ideal für jede Forschung oder Produktionsumgebung.