Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II #293672270 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II Photoresist Equipment ist ein umfassendes Photolithographiesystem, das für den Einsatz in der Halbleiterwaferbearbeitung entwickelt wurde. Das Gerät verfügt über eine Reihe von Hochleistungskomponenten, die präzise Wafer-Musteranwendungen ermöglichen. Im Kern der Maschine befindet sich ihr vielseitiges und leistungsfähiges Beleuchtungswerkzeug, das eine hochpräzise Belichtung der Photolackschicht auf dem Wafer ermöglicht. Eine Xenon-Lampe wird als Lichtquelle verwendet und eine komplexe Projektionsanlage ermöglicht eine volle Auflösung der feinen Eigenschaften auf dem Wafer sowie eine wiederholbare Beleuchtung des Wafers. Zusätzliche optische Bauelemente wie ein Projektionszylinder und Relaislinsen sorgen für die hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit, die für die praktische Halbleiterverarbeitung erforderlich sind. Das Modell Mark II Photoresist verfügt außerdem über eine mehrachsige Baugruppe, die für eine genaue und wiederholbare Bewegung der Wafer zwischen den verschiedenen Komponenten der Ausrüstung optimiert ist. Angetrieben wird die Stufe von einem hochpräzisen DC-Servomotor, der die dreiachsige Steuerung antreibt. Die hochsteife Konstruktion und das Low-Profile-Design der Bühne ermöglichen einen niedrigen Schwerpunkt und bieten so eine überlegene Bewegungs- und Bewegungssteuerung, während die Stellfläche des Systems klein bleibt. Um sicherzustellen, dass die präzisen Muster für alle Wafer gleichmäßig erzeugt werden können, umfasst die Mark II Photoresist Unit auch eine ausgeklügelte Kalibriermaschine. Dieses Kalibrierwerkzeug richtet automatisch die Optik des Objekts aus und sorgt dafür, dass die Belichtung des Fotolacks über den Wafer gleichmäßig und wiederholbar ist. Das Modell Mark II Photoresist ist einfach zu bedienen und zu warten, was es zu einer idealen Lösung für die Verarbeitung von Wafern mit hohem Volumen macht. Das Gerät enthält eine Reihe von Diagnosewerkzeugen und integrierten Sicherheitsvorkehrungen, um Ausfallzeiten zu minimieren und den ordnungsgemäßen Betrieb des Systems sicherzustellen. Darüber hinaus stehen auch Software-Updates für das Gerät zur Verfügung, so dass Benutzer ihre Maschine auf dem neuesten Stand für die neuesten Verbesserungen zu halten. Insgesamt ist TEL Clean Track Mark II Photoresist Tool eine umfassende und einfach zu bedienende Lösung für Halbleiter-Waferbearbeitungsanwendungen. Seine Präzisionsbeleuchtung, seine mehrachsige Bühnenbaugruppe und sein fortschrittliches Kalibriermodell ermöglichen höchste Genauigkeit und Wiederholbarkeit, während sein benutzerfreundliches Design dafür sorgt, dass die Ausrüstung einfach zu bedienen und zu warten ist.