Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark Vz #293628523 zu verkaufen

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ID: 293628523
Wafergröße: 4"
Weinlese: 1995
(2) Developer systems, 4" (4) Hot plates, 4"/6" (2) Cooling plates, 4"/6" Chemical cabinet Temperature control unit Nozzle AC Power box 1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark Vz Photoresist Equipment ist eine Photoresist-Prozesslösung, die für präzise Mikrofertigung und Serienfertigung in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Durch die Kombination modernster Photolacke mit G3-Prozesssteuerung ermöglicht dieses System eine höhere Prozessgleichförmigkeit bei höherer Wiederholbarkeit bei geringeren Wartungskosten und Abfall. Kern der Einheit ist das Applikationsmodul, das die beiden vorjustierten Ausgabekammern enthält. Diese Konfiguration gewährleistet eine Minimierung der Dispense-Variabilität und unterstützt außerordentlich gleichmäßige und hochauflösende Ergebnisse. Die Kammern ermöglichen ein schnelles Umschalten zwischen Lösungsmitteln, was eine breite Prozessflexibilität ermöglicht. Automatische Kalibrierung und Synchronisation von Temperatur, Durchfluss und Ausgabespannungskompensation helfen, die wiederholbare Leistung von Batch zu Batch zu erhalten. Die Maschine enthält auch eine fortschrittliche Steuereinheit, den Mark Vz Controller. Dieses intelligente Tool bietet dem Anwender eine Reihe von Funktionen wie automatisierte Prozesssteuerung, statistische Prozesssteuerung, Fotoausrichtungssteuerung und automatische Kompensation von niedrigeren Ausgaberaten. Die On-Board-Software verbessert die Leistung durch erweiterte Funktionen zur Erkennung von Funktionen, minimiert die Wirkung von Dispense-Variationen und sorgt für minimale Ausfallzeiten. Für eine verbesserte Wiederholbarkeit ist die Anlage mit einem geschlossenen Kühlmodell mit vier thermisch unabhängigen Temperatursensoren ausgestattet. Dadurch wird eine Temperaturgenauigkeit von bis zu 0,3 ° C gewährleistet und die höchste Wiederholbarkeit in der Industrie gewährleistet. Das Gerät bietet auch eine automatische Maskenwechsellösung, die ein verbessertes Prozessmanagement und eine effiziente Bedienereinrichtung ermöglicht. Für noch mehr Leistung und Genauigkeit bietet das System darüber hinaus zusätzliche physikalische und elektrische Prozessfunktionen, die eine bessere Kontrolle von Sicherheit, Präzision und Durchsatz ermöglichen. Insgesamt ist TEL Clean Track Mark Vz Photoresist Unit eine leistungsstarke, wartungsarme Photowiderstandslösung, die auf die Anforderungen der Halbleiterindustrie zugeschnitten ist. Durch die Kombination von einheitlicher Dosierung, fortschrittlicher Prozesskontrolle und -kontrolle sowie verbesserter Wiederholbarkeit und Genauigkeit bietet diese Lösung unübertroffene Leistungsstufen, Qualität und Kosteneffizienz.
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