Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark Vz #9185659 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark Vz ist eine Photolackausrüstung, die Chemikalien für den Entwicklungsprozess der Halbleiterlithographie speichert und abgibt. Es wurde entwickelt, um empfindliche Komponenten während des Entwicklungsprozesses zu schützen und Kontaminationen zu reduzieren. TEL Clean Track Mark Vz umfasst mehrere anspruchsvolle Funktionen wie Chemikalienlieferungssystem, chemische Verfolgung, Mischen und Anpassung einer Reihe von Chemikalien. Das Gerät verwendet einen Flüssigkeitsabgabearm mit einer Düse zur präzisen, schnellen chemischen Abgabe. Der Arm ist mit einem zentralen Tank zur Lagerung einer Vielzahl von Chemikalien verbunden. Die Maschine ist in der Lage, die verdünnte und ursprüngliche chemische Konzentration durch eine Reihe von Sensoren genau und genau zu verfolgen. Dadurch kann das Werkzeug das Verdünnungsverhältnis von Chemikalien einstellen, um die gewünschte Lösungsfestigkeit zu erreichen. Der Reinigungstank ist hocheffizient bei der Aufrechterhaltung eines hohen Reinheitsgrades ausgelegt. Der gesamte Reinigungsvorgang dauert weniger als eine Sekunde. Die Anlage verfügt auch über ein modernes chemisches Wartungsmodell, um eine ordnungsgemäße Handhabung und Nachverfolgung der während des Entwicklungsprozesses verwendeten Chemikalien sicherzustellen. Der modulare Aufbau macht es einfach zu bedienen und zu warten. Die geschweißte Edelstahl-Mischkammer ist so konzipiert, dass sie eine robuste Ausrüstung ohne Risiko von Leckagen oder Systemausfällen bietet. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark Vz umfasst auch hochpräzise Präzisionskontrollwerkzeuge, um die optimalen Prozessbedingungen während des gesamten Lithographie-Entwicklungsprozesses zu gewährleisten. Dazu gehört eine Überwachungseinheit für chemische Werte, Temperatur und Reinheit. Die Maschine bietet eine Vielzahl von Möglichkeiten zum Reinigen, Mischen und Steuern der chemischen Waage. Alle Eigenschaften im Sauberen Spurenzeichen Vz werden entworfen, um Bearbeitungszeit, Zunahmendurchfluss zu minimieren, und den Höchststand der Qualität im resultierenden Halbleitersteindruckverfahrenentwicklungsprozess zu sichern.