Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark Vz #9314130 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark Vz ist eine Photoresist-Ausrüstung zur schnellen und präzisen Strukturierung von Wafern. Es verfügt über eine Hochgeschwindigkeits-Scan-Fähigkeit kombiniert mit einer Auflösung von 100 nm, so dass es ideal für die Herstellung von ein- oder mehrstufigen Photomasken ist. Dieses System besteht aus einem hochleistungsfähigen, wassergekühlten ArF-Laser, der mit einer Wellenlänge von 193 nm läuft. Es befindet sich neben einer zentralen Ausrichteinheit, die eine genaue Ausrichtung der Fotomaske auf den Wafer ermöglicht. Der ArF-Laserausgang wird über eine Optiksäule zugeführt und das Photomaskenmuster von der entsprechenden Stelle auf den Wafer projiziert. Der Laserscanner ist unglaublich präzise, so dass sehr kleine Funktionen erstellt werden können, ohne auf Genauigkeit zu verzichten. Es ist in der Lage, eine 200-mm-Linienbreite mit einer Genauigkeit von ± 10-nm zu erreichen. Es hat eine Betriebsgeschwindigkeit von bis zu 1000 Linien/sec, so dass es Prototypen-Features schneller als jede andere Maschine in seiner Klasse zu produzieren. Darüber hinaus verfügt der Mark Vz über verschiedene erweiterte Sicherheitsfunktionen. Die wasserseitige Abdeckung verhindert den Kontakt mit der Laseroptik und das Spindelschutzwerkzeug begrenzt die Laserbelastung des Wafers. Sicherheitssensoren schalten den Laserstrahl ab, wenn die korrekte Positionierung des Wafers nicht eingehalten wird, wodurch die Fotomaske vor Beschädigungen geschützt wird. Um eine einfache Wartung zu ermöglichen, ist die Anlage mit einfach zu bedienender Software ausgestattet. Es automatisiert viele der gängigen Wartungsaufgaben und liefert detaillierte Diagnoseinformationen. Zusätzlich kann das Modell mit dem neuesten Softwarepaket aktualisiert werden, was eine maximale Lebensdauer der Ausrüstung gewährleistet. Insgesamt ist TEL Clean Track Mark Vz eine hochentwickelte Photoresist-Ausrüstung, die für die schnelle und präzise Strukturierung von Wafern entwickelt wurde. Seine zuverlässige Leistung, Präzisionsgenauigkeit und Sicherheitsmerkmale machen es zu einer idealen Wahl für die Herstellung präziser Photomasken-Muster.