Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9380658 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 ist eine halbautomatische Photoresist-Ausrüstung für die Verarbeitung von Dünnschichtabscheidungsanwendungen. Es handelt sich um ein Beschichtungs-/Stanzsystem bestehend aus einer Roboter-Wafer-Prozesseinheit, einem programmierbaren Luft/Vakuum-Reservoir und einer Prozesskammer. Dieses Gerät eignet sich aufgrund seiner Präzision und Genauigkeit ideal für lithographische Anwendungen im Feinabstand. TEL CS-600 ermöglicht die Abscheidung beider Dünnschichtschichten wie Photoresist, Kieselsäure, Aluminium und Titan in einem einzigen Prozess. Die Maschine ist in der Lage, Hochgeschwindigkeitsmuster und kann sowohl Kontaktlithographie und Näherungs-Photolithographie leicht unterbringen. Es ist auch in der Lage, Schichtlinienabstandshalter Bildung, die die Fähigkeit des Werkzeugs zur Aufnahme einer Vielzahl von Mustergeometrien erhöht. TOKYO ELECTRON CS-600 eignet sich sowohl für Halbleiter- als auch für Photowannenprozesse wie Photolithographie, Kontaktilithographie und Näherungslithographie. Die Waferoberfläche wird einer präzise gleichmäßigen Beschichtung von lichtempfindlichen Materialien ausgesetzt und anschließend mit Blitzbelichtung strukturiert. CS-600 können verschiedene Prozesse aufnehmen, die eine Pixelgröße von 10 Mikrometer bis 24 Mikrometer erfordern. TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 ist mit einem vierachsigen Roboterarm ausgestattet, der zur schnellen und präzisen Manipulation der Wafer programmiert werden kann. Es ermöglicht schnellen Mustertransfer und Schichtwachstum zu niedrigen Kosten aufgrund seiner effizienten Scangenauigkeit. Diese Anlage verfügt über eine eingebaute einstellbare Vakuumkammer, die das Niveau der lichtempfindlichen Schicht steuert, um eine perfekte Bindung aufeinanderfolgender Schichten zu gewährleisten. TEL CS-600 ist mit einem programmierbaren Luft-/Vakuumbehälter ausgestattet, der die Genauigkeit des Vakuumniveaus des Modells jederzeit maximiert. Das Luft/Vakuum-Reservoir ist verstellbar, um Wafer beliebiger Dicke aufzunehmen. Darüber hinaus ist TOKYO ELECTRON CS-600 auch mit einem Absperrschieber ausgestattet, um den Photolack innerhalb des Reservoirs zu halten und eine Oxidation zu verhindern. CS-600 ist eine hocheffiziente und zuverlässige Photoresist-Ausrüstung, die für die Hochvolumenproduktion von Dünnschichtschichten ausgelegt ist. Dank seiner präzisen und präzisen Leistung ist es eine ideale Wahl für Anwendungen mit feinteiliger Lithographie. Die automatisierte Robotik und das programmierbare Luft/Vakuum-Reservoir des Systems machen es äußerst benutzerfreundlich und bieten hervorragende Ergebnisse.