Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9380670 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 Photoresist Equipment ist eine komplette lithographische Suite, die auf dem hochgenauen und produktiven CS300 basiert. Diese Einheit verwendet eine hochmoderne Excimer-Laserquelle für die Lithographie und ein Vierzonenbackmodul für die Resistgleichmäßigkeit und das Nachbacken. Es ist speziell für die Serienfertigung integrierter Schaltungen wie Speicher, Logik und CMOS-Geräte konzipiert. TEL CS-600 verwendet einen fortschrittlichen Laserprojektionsausrichtungsdetektor, um eine genaue und präzise Ausrichtung der Maske auf das Substrat zu erreichen. Diese fortschrittliche Laserausrichtungstechnologie ermöglicht eine präzise lithographische Verarbeitung und eine hohe Prozessausbeute. Ein Autofokus-Detektor wird verwendet, um die Position des Laserfokus zu steuern und eine reduzierte Defokus ermöglichen Linse, die Produktivität der Maschine zu maximieren. Die Laserbelichtungsparameter werden durch die mehrstufige Emissionsstruktur des Lasers und die unterschiedliche Defokuseinstellung präzise optimiert. Die Overlay-Genauigkeit von TOKYO ELECTRON CS-600 wird durch die Optimierung der Laserstrahl-Punktgröße und die Verwendung einer doppelten Orientierungsmarke verbessert. Darüber hinaus kann die Laserquelle auf spezifische Lithographieanwendungen zugeschnitten werden. Der Laser ist auch mit Hochleistungs-Preflash und Flood Flash-Funktionen ausgestattet, um die Tiefenabdeckung zu gewährleisten. Die Resistverarbeitung auf CS-600 wird mit individuell gesteuerten Temperaturzonen und gleichmäßigen Backprozessen ermöglicht. Die Verwendung eines hochauflösenden Mehrzonen-Backmoduls sorgt für eine verbesserte lithographische Leistung und ein erhöhtes Prozessfenster. Mit den kombinierten Möglichkeiten der Laserprojektionsausrichtung und dem Vierzonen-Backmodul bietet TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 ein robustes Resist-Verfahren für die Herstellung von hochvolumigen integrierten Schaltungen. Die eingebauten fortgeschrittenen Belichtungssteuerungsverfahren ermöglichen die einfache Anpassung von TEL CS-600 an die Anforderungen verschiedener integrierter Schaltungskonstruktionen und Fertigungsprozesse. Die Wafer-zu-Wafer-Kantenausrichtung wird durch die umfassende Wafer-Ausrichtung des Werkzeugs gesteuert. Die Hilfsmesseinrichtung erhöht die Ausrichtungsgenauigkeit von Form zu Form. TOKYO ELECTRON CS-600 integriert auch eine komplette Prozesssteuerungsumgebung, die Qualitätskontrolle und Prozessoptimierung ermöglicht. Es ist mit einem umfassenden Qualitätsanalysemodell ausgestattet, mit dem die verschiedenen lithographischen Parameter und Prozessbedingungen überwacht werden. Anhand dieser Daten werden dann statistische Prozessmodelle entwickelt, die zur weiteren Optimierung des lithographischen Prozesses verwendet werden können. CS-600 ist eine hochintegrierte und optimierte Photoresist-Ausrüstung für hochvolumige integrierte Schaltungsherstellungsanwendungen. Es ist mit modernen Lithographie- und Resistverarbeitungstechniken ausgestattet und bietet überlegene lithografische Leistung. Die fortschrittlichen Steuerungssysteme sorgen dafür, dass der Photolithographie-Prozess optimiert und gleichzeitig die Qualität erhalten bleibt.