Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9380683 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 Photoresist Equipment ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug für photolithographische Prozesse in der Halbleiterindustrie. Mit einem zuverlässigen integrierten System zur verbesserten Steuerung des Photolithographie-Prozesses ist TEL CS-600 mit modernster optischer Leistung und fortschrittlicher Wafer-Handhabung ausgestattet. Dieses Gerät bietet eine hervorragende optische Leistung, einschließlich einer hohen numerischen Apertur (NA) für präzise Bildgebung und eine überlegene Laserbestrahlungsleistungsregelung für die dynamische Leistungseinstellung. Die Maschine wird auch mit der fortgeschrittenen Oblate ausgestattet, die Fähigkeiten einschließlich der automatisierten Substratanordnung, Oblate-zu-Oblate-Temperaturgleichförmigkeit behandelt, und hat kühl werdende Geschwindigkeiten für kontrollierte Prozesstemperaturen optimiert. Darüber hinaus verfügt TOKYO ELECTRON CS-600 über eine programmierbare Stromversorgung für maximale Flexibilität und eine Not-Aus-Funktion für die Sicherheit. CS-600 bietet auch eine Reihe von verschiedenen Photoresist-Optionen für unterschiedliche Lithographie-Bedürfnisse. Dazu gehören Single Mode Photoresists (SMPR), Multi Mode Photoresists (MMPR) und Proactive Photoresists (PPR). SMPR bietet eine hohe Empfindlichkeit und Detailtreue sowie einen hervorragenden Kontrast. MMPR ist ideal für komplexe photolithographische Aufgaben und ist in der Lage, große Muster mit in das Substrat eingebranntem Photolack zu erzeugen. PPR ist ein Hochleistungs-Photolack, der für 3D-Strukturen entwickelt wurde und in der Lage ist, fortschrittliche Lithographieergebnisse zu erzielen. TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 hat eine kompakte Konfiguration, um eine einfache Installation und Bedienung zu gewährleisten. Darüber hinaus bietet es eine breite Palette von Standard- und kundenspezifischen Komponenten für die Anpassung an spezifische Kundenanforderungen. Darüber hinaus ermöglicht der modulare Aufbau des Werkzeugs den einfachen Austausch einzelner Photolackkomponenten. TEL CS-600 Photoresist Asset ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug für fortschrittliche Lithographieverfahren und kann hohe Reproduzierbarkeit und Einheitlichkeit der Prozessergebnisse bieten. Dieses Modell liefert sehr zuverlässige Ergebnisse für eine breite Palette von Photolithographie-Prozessen und eignet sich gut für den Einsatz in der Halbleiterherstellung.