Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9399456 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 ist eine Photoresist (PR) -Ausrüstung, die für Hochleistungsdielektrizitätsmuster entwickelt wurde. Es nutzt All-in-One-Plattform, um Anwendern die kostengünstigsten und effizientesten Photolackentwicklungs- und Trockenätzprozesse zu bieten. TEL CS-600 Photoresist-System kann für eine breite Palette von Anwendungen angewendet werden, die eine präzise Strukturierung von Materialien erfordern, wie bei der Herstellung von integrierten Schaltungen, LED-Beleuchtung und Anzeigeprodukten. TOKYO ELECTRON CS-600 verfügt über eine hohe Geschwindigkeit und ein präzises Einzelraddesign, das eine partikelfreie Verarbeitung und Handhabung empfindlicher Komponenten ermöglicht. Es verfügt über eine Dual-Scanner-Einheit und jede Einheit ist in der Lage, bis zu 100 Wafer mit einer doppelten Wellenlänge KRYDFE Ausgang von 90kHz bzw. 200kHz zu verarbeiten. CS-600 bietet auch eine optionale Vier-Rad-Option für höhere Geschwindigkeit, Genauigkeit sowie für mehr Verarbeitungskapazität. Die Vier-Rad-Option bietet zudem eine verbesserte Wafer-Vorkonditionierung, die eine bessere Vorbelichtung und Beschichtung des Wafers ermöglicht. TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 Photoresist-Einheit kann mit verschiedenen Beschichtungen und Dicken von PRs verwendet werden und bietet eine hervorragende Kontrolle über die Dicke der Wände der entwickelten Muster. TEL CS-600 verfügt zudem über einen halbautomatischen PR-Scrub-Prozess, der einheitliche und wiederholbare Ergebnisse während der Musterentwicklung ermöglicht. Hinsichtlich der Dateneingabe ist TOKYO ELECTRON CS-600 in die SPS-nanoManager Datenbanksoftware des Unternehmens zur Steuerung von Wafersubstrateigenschaften und -parametern integriert. Die Maschine bietet auch eine Echtzeit-Substrat-Daten-Ladeprozesse und kann jede Datenbankschnittstelle verwenden. Auf der Sicherheitsseite entspricht das Werkzeug den Anforderungen der ISO 14644-13 an die partikel- und lösemittelfreie Umgebung. Insgesamt ist CS-600 Photoresist-Asset kostengünstig konzipiert und bietet Anwendern Präzision, Geschwindigkeit und Zuverlässigkeit bei der Verarbeitung von Materialien und verringert das Risiko von Beschädigungen empfindlicher Teile im Prozess. Durch gute Wafer-Vorkonditionierung, exzellente PR-Scrub-Prozesssteuerung und Echtzeit-Substratdatenladung profitieren Anwender von der maximalen Verarbeitungskapazität des Modells und den bestmöglichen Ergebnissen.